[EN] NOVEL NAPHTHALIMIDE SULFONATE DERIVATIVE, AND PHOTOACID GENERATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION WHICH COMPRISE SAME<br/>[FR] NOUVEAU DÉRIVÉ DE SULFONATE DE NAPHTALIMIDE, ET GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE QUI LES COMPRENNENT<br/>[KO] 신규한 나프탈이미드 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물
申请人:[en]SAMYANG CORPORATION;[ko]주식회사 삼양사
公开号:WO2022071774A1
公开(公告)日:2022-04-07
본 발명은 나프탈이미드 술폰산 유도체, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, i-line(365㎚) 파장의 광에 대한 흡광도가 우수하며, 유기 용매에 대한 용해성이 높고, 열적 안정성이 좋으며, 양호한 산 발생율을 나타내는 나프탈이미드 술폰산 유도체 화합물, 및 이를 포함하는 광산 발생제 및 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.