2-(Dicyclohexylphosphoryl)-3-(2-methoxyphenyl)naphthalene-1,4-diol | 920981-16-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 2-(Dicyclohexylphosphoryl)-3-(2-methoxyphenyl)naphthalene-1,4-diol
• 英文别名: 2-dicyclohexylphosphoryl-3-(2-methoxyphenyl)naphthalene-1,4-diol
• CAS: 920981-16-4
• 化学式: C₂₉H₃₅O₄P
• 分子量: 478.568
• InChiKey: SQAXFUFRYKIORN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  694.1±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.24±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.2
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  66.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(Dicyclohexylphosphoryl)-3-(2-methoxyphenyl)naphthalene-1,4-diol 、 碘甲烷 在 四丁基硫酸氢铵 、 caesium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 36.0h， 以100%的产率得到Dicyclohexyl(1,4-dimethoxy-3-(2-methoxyphenyl)naphthalen-2-yl)phosphine oxide
  参考文献：
  名称：

  A Mixed Naphthyl-Phenyl Phosphine Ligand Motif for Suzuki, Heck, and Hydrodehalogenation Reactions

  摘要：

  Nap-Phos代表着一种新型萘基-苯基双芳基膦配体，可通过短合成路线（4步，总产率71%）制备，并能有效催化铃木-宫浦反应（包括高度受阻的情况）、氢去卤反应和赫克反应。

  DOI：

  10.1055/s-2006-951538
• 作为产物：
  描述：

  2-溴-1,4-萘醌 在 二(三叔丁基膦)钯 potassium phosphate 、 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 、 苯 为溶剂， 反应 120.0h， 生成 2-(Dicyclohexylphosphoryl)-3-(2-methoxyphenyl)naphthalene-1,4-diol
  参考文献：
  名称：

  A Mixed Naphthyl-Phenyl Phosphine Ligand Motif for Suzuki, Heck, and Hydrodehalogenation Reactions

  摘要：

  Nap-Phos代表着一种新型萘基-苯基双芳基膦配体，可通过短合成路线（4步，总产率71%）制备，并能有效催化铃木-宫浦反应（包括高度受阻的情况）、氢去卤反应和赫克反应。

  DOI：

  10.1055/s-2006-951538

文献信息

• A Mixed Naphthyl-Phenyl Phosphine Ligand Motif for Suzuki, Heck, and Hydrodehalogenation Reactions
  作者：Oleg Demchuk、Victor Snieckus、Bilge Yoruk、Tom Blackburn

  DOI：10.1055/s-2006-951538

  日期：2006.11

  Nap-Phos, representing a new naphthyl-phenyl biaryl-type phosphine ligand class and available by a short synthesis (4 steps, 71% overall yield), effectively catalyzes the Suzuki-Miyaura (including highly hindered cases), hydrodehalogenation, and Heck reactions.

  Nap-Phos代表着一种新型萘基-苯基双芳基膦配体，可通过短合成路线（4步，总产率71%）制备，并能有效催化铃木-宫浦反应（包括高度受阻的情况）、氢去卤反应和赫克反应。