Controlled Photochemical Release of Nitric Oxide from <i>O</i><sup>2</sup>-Benzyl-Substituted Diazeniumdiolates
作者:Patrick H. Ruane、K. Mani Bushan、Christopher M. Pavlos、Raechelle A. D'S、John P. Toscano
DOI:10.1021/ja026900s
日期:2002.8.1
electron-donating groups on the photochemistry of O2-benzyl-substituted diazeniumdiolates (R2N-N(O)=NOCH2Ar) is reported. Photolysis of the parent benzyl derivative (Ar = Ph) results almost exclusively in undesired photochemistry-the formation of nitrosamine and an oxynitrene intermediate with very little, if any, photorelease of the diazeniumdiolate. We have been able to use meta substitution to tune the
已经启动了对二氮烯二醇 (R2N-N(O)=NO-) 潜在光敏保护基团的研究,这里研究了间位给电子基团对 O2-苄基取代的二氮烯二醇 (R2N-N(O) )=NOCH2Ar) 被报道。母体苄基衍生物 (Ar = Ph) 的光解几乎完全导致不希望的光化学反应 - 亚硝胺和氧氮烯中间体的形成,如果有的话,二氮烯二醇的光释放很少。我们已经能够使用元取代来调整这些苄基系统的光化学。已显示所需的二氮烯二醇光离型剂随着更强的 pi 供体间位取代基变得更加坚固。这种效应已经通过用 1H NMR 光谱直接观察光释放的二氮烯二醇和在高和低 pH 溶液中进行的 NO 定量测量得到证实。此外,观察到的 NO 释放速率与二氮烯二醇在水溶液中正常热分解的预期速率一致,并且也显示出相同的 pH 依赖性。