2-甲基丁酸对甲苯基酯 | 67952-39-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 中文名称: 2-甲基丁酸对甲苯基酯
• 英文名称: p-Cresyl 2-methylbutyrate
• 英文别名: (4-methylphenyl) 2-methylbutanoate
• CAS: 67952-39-0
• 化学式: C₁₂H₁₆O₂
• 分子量: 192.25
• InChiKey: MZRLUHCGJZLAER-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• LogP：
  3.453 (est)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.42
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20160090355A1

  公开（公告）日：2016-03-31

  A sulfonium salt of formula (0-1) is provided wherein W is alkylene or arylene, R 01 is a monovalent hydrocarbon group, m is 0, 1 or 2, k is an integer: 0≦k≦5+4m, R 101 , R 102 and R 103 are a monovalent hydrocarbon group, or at least two of R 101 , R 102 and R 103 may bond together to form a ring with the sulfur atom, and L is a single bond, ester, sulfonic acid ester, carbonate or carbamate bond. A resist composition comprising the sulfonium salt as PAG exhibits a very high resolution when processed by EB and EUV lithography. A pattern with minimal LER is obtainable.

  提供一种化学式为（0-1）的磺鎓盐，其中W是烷基或芳基，R01是一价碳氢基团，m为0、1或2，k为整数：0≦k≦5+4m，R101、R102和R103是一价碳氢基团，或者R101、R102和R103中至少两个可以相互结合形成与硫原子的环，L是单键、酯、磺酸酯、碳酸酯或氨基甲酸酯键。包含磺鎓盐作为PAG的抗蚀组成物在经过电子束或极紫外光刻过程时表现出非常高的分辨率。可获得具有最小LER的图案。
• CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20180180998A1

  公开（公告）日：2018-06-28

  A negative resist composition comprising a sulfonium compound having formula (A) and a base polymer is provided. The resist composition exhibits a high resolution during pattern formation and forms a pattern with minimal LER.

  提供一种负型光刻胶组合物，包括具有公式(A)的磺化物化合物和基础聚合物。该光刻胶组合物在图案形成期间表现出高分辨率，并形成具有最小LER的图案。
• US9604921B2
  申请人：——

  公开号：US9604921B2

  公开（公告）日：2017-03-28