Bis-(pentafluor-phenyl)-methyl-carbinol | 21190-47-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Bis-(pentafluor-phenyl)-methyl-carbinol
• 英文别名: 1,1-Bis(pentafluorophenyl)-1-ethanol；1,1-bis(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)ethanol
• CAS: 21190-47-6
• 化学式: C₁₄H₄F₁₀O
• 分子量: 378.169
• InChiKey: KGUUGWKHBRPWIW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  59.5-60 °C
• 沸点：
  313.6±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.674±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.9
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Bis-(pentafluor-phenyl)-methyl-carbinol 在 sodium hydroxide 、 硝酸 作用下， 生成 2',3',4',5',6'-五氟苯乙酮
  参考文献：
  名称：

  Anichkina,S.A. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1969, vol. 39, p. 1730 - 1736

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2',3',4',5',6'-五氟苯乙酮 、 五氟苯锂 以 乙醚 为溶剂， 生成 Bis-(pentafluor-phenyl)-methyl-carbinol
  参考文献：
  名称：

  Gerasimova,T.N. et al., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1969, vol. 5, p. 2137 - 2141

  摘要：

  DOI：

文献信息

• RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FujiFilm Corporation

  公开号：US20190219922A1

  公开（公告）日：2019-07-18

  There is provided a resist composition containing a resin. The resin includes a repeating unit (a) having one or more *—OY 0 groups substituted for an aromatic ring; and a phenolic hydroxyl group (b) or a partial structure (c) represented by Formula (X). Here, the *—OY 0 group is a group that is decomposed due to an action of an acid to generate a phenolic hydroxyl group, and Y 0 is a specific protective group. In a case where the repeating unit (a) includes none of the phenolic hydroxyl group (b) and the partial structure (c), the repeating unit (a) is a repeating unit in which the *—OY 0 group is decomposed due to an action of an acid to generate two or more phenolic hydroxyl groups.