2-nitrobenzyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate | 1338723-13-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-nitrobenzyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
• 英文别名: (2-Nitrophenyl)methyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate；(2-nitrophenyl)methyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
• CAS: 1338723-13-9
• 化学式: C₁₅H₁₅NO₄
• 分子量: 273.288
• InChiKey: PUNGGCQJRIIYTP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  72.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-(2-硝基苯基)乙醇 、 5-降冰片烯-2-羧酸 在 4-二甲氨基吡啶 、 盐酸-N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基丙基)碳二亚胺 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以80%的产率得到2-nitrobenzyl bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  用于纳米光刻的水性可显影双开关光刻胶

  摘要：

  光子介导的聚合物溶解度转换在通过光刻技术制造集成电路中起着至关重要的作用。常规的光致抗蚀剂通常依赖于基于聚合物极性或分子量变化的单一转换机制。在这里，我们报告了使用两种机制的光刻胶平台。通过使用经过光致断链的聚（烯烃砜）可以实现分子量的转换。极性切换是通过使用o官能化的侧基实现的-硝基苄基酯。这些是亲水性羧酸的疏水性光敏保护基。在辐射下，它们被裂解，使聚合物可溶于碱水溶液。重要的是，抗蚀剂不包含光酸产生剂，因此不会遭受与酸扩散有关的有害于图案保真度的问题。使用掠角衰减的全反射傅立叶变换红外光谱，可变角光谱椭圆偏振法和在碱水溶液中的溶解度测量，跟踪聚合物薄膜的193 nm光化学反应。还使用193 nm干涉平版印刷术和电子束平版印刷术对聚合物的纳米级图案化性能进行了评估。讨论了使用双重切换机制的含义。©2012 Wiley Periodicals，Inc. J Polym Sci A部分：

  DOI：

  10.1002/pola.26232

文献信息

• Photoresponsive Polymers Containing Nitrobenzyl Esters via Ring-Opening Metathesis Polymerization
  作者：Patricia Gumbley、Damla Koylu、Samuel W. Thomas

  DOI：10.1021/ma2015529

  日期：2011.10.25

  This paper describes controlled ring-opening metathesis polymerizations (ROMP) of norbornene derivatives that bear photoreactive o-nitrobenzyl ester (NBE) moieties. Termination reactions have frustrated previous reported attempts to execute controlled radical polymerizations with nitrobenzyl ester-containing acrylate derivatives. We therefore prepared new NEE-containing norbomene C derivatives, and found that polymerization with Grubbs's ruthenium carbene catalysts led to complete consumption of monomer in minutes to hours and yielded polymers with predictable molecular weights. We also demonstrate the preparation of NBE-containing block copolymers and show through UV irradiation of these polymers in solution and in thin film that the NBE moieties remain photoreactive.
• Aqueous developable dual switching photoresists for nanolithography
  作者：Lan Chen、Yong Keng Goh、Han Hao Cheng、Bruce W. Smith、Peng Xie、Warren Montgomery、Andrew K. Whittaker、Idriss Blakey

  DOI：10.1002/pola.26232

  日期：2012.10.15

  o‐nitrobenzyl esters. These are hydrophobic photosensitive‐protecting groups for hydrophilic carboxylic acids. On irradiation, they are cleaved, making the polymer soluble in aqueous base. Importantly, the resists do not contain photoacid generator, so do not suffer from problems associated with acid diffusion that are detrimental to pattern fidelity. The 193 nm photochemistry of polymer thin films was followed

  光子介导的聚合物溶解度转换在通过光刻技术制造集成电路中起着至关重要的作用。常规的光致抗蚀剂通常依赖于基于聚合物极性或分子量变化的单一转换机制。在这里，我们报告了使用两种机制的光刻胶平台。通过使用经过光致断链的聚（烯烃砜）可以实现分子量的转换。极性切换是通过使用o官能化的侧基实现的-硝基苄基酯。这些是亲水性羧酸的疏水性光敏保护基。在辐射下，它们被裂解，使聚合物可溶于碱水溶液。重要的是，抗蚀剂不包含光酸产生剂，因此不会遭受与酸扩散有关的有害于图案保真度的问题。使用掠角衰减的全反射傅立叶变换红外光谱，可变角光谱椭圆偏振法和在碱水溶液中的溶解度测量，跟踪聚合物薄膜的193 nm光化学反应。还使用193 nm干涉平版印刷术和电子束平版印刷术对聚合物的纳米级图案化性能进行了评估。讨论了使用双重切换机制的含义。©2012 Wiley Periodicals，Inc. J Polym Sci A部分：