Hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-ol | 68756-59-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 四氢呋喃
• 英文名称: Hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-ol
• 英文别名: 2-oxabicyclo-[3.3.0]octan-3(R,S)-ol；3,3a,4,5,6,6a-hexahydro-2H-cyclopenta[b]furan-2-ol
• CAS: 68756-59-2
• 化学式: C₇H₁₂O₂
• 分子量: 128.171
• InChiKey: IFUYEJWYVORTEU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-one 、 diisobutylaluminum hydride 在 crude product 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以to give the titled compound (53)的产率得到Hexahydro-cyclopenta[b]furan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  Treatment of cataract with 15-keto-prostaglandin compounds

  摘要：

  一种用于治疗白内障的化合物，是一种15-酮前列腺素化合物。

  公开号：

  US05212324A1

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20110183258A1

  公开（公告）日：2011-07-28

  A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

  本发明提供了一种正性光阻组合物，包括（A）一种在与光致发色剂或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）一种树脂，能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度，以及（C）一种具有特定结构的化合物，能够通过酸的作用分解产生酸。该正性光阻组合物在正常曝光（干曝光）、浸没曝光和双重曝光中表现出良好的图案形貌、线边粗糙度、图案坍塌、灵敏度和分辨率性能。同时，本发明提供了一种使用该正性光阻组合物的图案形成方法以及用于该正性光阻组合物的化合物。
• Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, mask blank provided with active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device and novel compound
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10324374B2

  公开（公告）日：2019-06-18

  There is provided an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which contains (A) an alkali soluble resin and (C) a cross-linking agent represented by the following General Formula (1-0).

  本发明提供了一种活性光敏或辐射敏感树脂组合物，它含有 (A) 碱溶性树脂和 (C) 由下式（1-0）表示的交联剂。
• US7759399B2
  申请人：——

  公开号：US7759399B2

  公开（公告）日：2010-07-20
• US8507174B2
  申请人：——

  公开号：US8507174B2

  公开（公告）日：2013-08-13
• Treatment of cataract with 15-keto-prostaglandin compounds
  申请人：R.-Tech Ueno Ltd.

  公开号：US05212324A1

  公开（公告）日：1993-05-18

  A compound for treatment of a cataract which is a 15-ketoprostaglandin compound.

  一种用于治疗白内障的化合物，是一种15-酮前列腺素化合物。