1,3-Bis(chloromethoxymethyl)benzene | 1146982-91-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,3-Bis(chloromethoxymethyl)benzene
• 英文别名: 1,3-bis(chloromethoxymethyl)benzene
• CAS: 1146982-91-3
• 化学式: C₁₀H₁₂Cl₂O₂
• 分子量: 235.11
• InChiKey: DONBUUUYGAMAJK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  305.6±32.0 °C(predicted)
• 密度：
  1.233±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-吡啶甲醛肟 、 1,3-Bis(chloromethoxymethyl)benzene 以 乙腈 为溶剂， 反应 4.5h， 以70%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  新型双吡啶肟作为DFP抑制的乙酰胆碱酯酶的活化剂的合成和评价

  摘要：

  合成了一系列由双-甲氧基甲基苯，1,4-双-甲氧基甲基（顺式）-丁-2-烯和1,4-双-甲氧基甲基丁-2-炔连接基连接的新型双吡啶肟。评估了对氟磷酸二异丙酯（DFP）抑制的乙酰胆碱酯酶（AChE）的体外再激活功效，并将其与已建立的解毒剂2-PAM和Obidoxime进行了比较。但是，使用标准肟2-PAM可以观察到最佳的再活化。1,3-二甲氧基甲基苯双-[4,4'-（羟基亚氨基甲基）吡啶鎓]二氯化物（3d）和1,4-二甲氧基丁-2-烯双-[4,4'-（羟基亚氨基甲基）吡啶鎓的活化活性]二氯化物（3克）与另一种标准解毒剂奥比多肟相当。

  DOI：

  10.1016/j.ejmech.2008.02.029
• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 1,3-苯二甲醇 在 三聚甲醛 、 盐酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 2.5h， 以31.6 g的产率得到1,3-Bis(chloromethoxymethyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  JP5659492

  摘要：

  公开号：

文献信息

• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130122423A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. For this purpose, a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition are provided.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解度和高灵敏度的化合物，同时还能获得良好的抗蚀图案形状，包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。为此，提供了通过多酚基环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），包含该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• COMPOUND, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2599814A1

  公开（公告）日：2013-06-05

  The object is to provide a compound having high dissolvability in a safe solvent and high sensitivity, and also capable of obtaining a good resist pattern shape, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition. The solving means are a compound (B) obtained by reaction between a polyphenol based cyclic compound (A) and a compound (C) having a particular structure, a radiation-sensitive composition containing the same, and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明的目的是提供一种在安全溶剂中具有高溶解性和高灵敏度并能获得良好抗蚀剂图案形状的化合物、一种含有该化合物的辐射敏感组合物以及一种使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。 解决方法是由基于多酚的环状化合物（A）和具有特定结构的化合物（C）反应得到的化合物（B），含有该化合物的辐射敏感性组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。
• ALKYL ETHER COMPOSITIONS AND METHODS OF USE
  申请人：EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC

  公开号：US20140039214A1

  公开（公告）日：2014-02-06

  A polymer includes a linker represented by Formula I ([OR 1 OCH 2 OR 2 OCH 2 ] m ), where R 1 and R 2 are, independently, alkylene, alkenylene, arylene, heteroarylene, or alkylarylalkylene; and the polymer has a weight average molecular weight of about 500 g/mol to about 2,000,000 g/mol, and m is 1 to 1000.
• POLYMER COMPOUND, RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：A School Corporation Kansai University

  公开号：US20170059989A1

  公开（公告）日：2017-03-02

  A polymer compound including a unit structure represented by the following general formula (1): wherein m 1 equals 1 to 8, n 1 equals 0 to 7, m 1 +n 1 equals 4 to 8, m 2 equals 1 to 8, n 2 equals 0 to 7, m 2 +n 2 equals 4 to 8, m 1 equals m 2 , y represents 0 to 2, R 1 represents a hydroxy group, a substituted or unsubstituted straight, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or a halogen atom, R 3 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted straight, branched or cyclic alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, each R 2 independently represents any structure represented by general formula (2) in the specification, at least one R 2 has an acid-dissociable site, and R 5 represents a hydroxy group or —O—R 2 —O—*.
• US8779070B2
  申请人：——

  公开号：US8779070B2

  公开（公告）日：2014-07-15