[EN] RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING ALICYCLIC COMPOUND-TERMINATED POLYMER<br/>[FR] COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT UN POLYMÈRE À EXTRÉMITÉ DE COMPOSITION ALICYCLIQUE<br/>[JA] 脂環式化合物末端の重合体を含むレジスト下層膜形成組成物
申请人:NISSAN CHEMICAL CORP
公开号:WO2020226141A1
公开(公告)日:2020-11-12
所望のレジストパターンを形成できるレジスト下層膜を形成するための組成物、及び該レジスト下層膜形成組成物を用いたレジストパターン製造方法、半導体装置の製造方法を提供する。ポリマーの末端に、炭素-炭素結合がヘテロ原子で中断されていてもよく且つ置換基で置換されていてもよい脂肪族環を含み、さらに有機溶媒を含む、レジスト下層膜形成組成物である。前記脂肪族環が、炭素原子数3~10の単環式又は多環式脂肪族環である。前記多環式脂肪族環が、ビシクロ環又はトリシクロ環である。