3,6,9,12,15,18,21,24-八氧杂三十七烷酸 | 66161-61-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 中文名称: 3,6,9,12,15,18,21,24-八氧杂三十七烷酸
• 英文名称: 3,6,9,12,15,18,21,24-Octaoxaheptatriacontanoic acid
• 英文别名: 2-[2-[2-[2-[2-[2-[2-(2-tridecoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]acetic acid
• CAS: 66161-61-3
• 化学式: C₂₉H₅₈O₁₀
• 分子量: 566.8
• InChiKey: XBMLLJLGCSRVNC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  35
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.97
• 拓扑面积：
  111
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

文献信息

• CLEANING LIQUID FOR SEMICONDUCTOR DEVICE SUBSTRATES AND METHOD OF CLEANING SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICES
  申请人：MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US20130174867A1

  公开（公告）日：2013-07-11

  The invention relates to a cleaning liquid for semiconductor device substrates comprising the following components (A) to (D) and a method of cleaning semiconductor device substrates: (A) at least either one of a polycarboxylic acid and a hydroxycarboxylic acid; (B) a sulfonic acid type anionic surfactant; (C) a carboxylic acid type anionic surfactant; and (D) water.
• US9365802B2
  申请人：——

  公开号：US9365802B2

  公开（公告）日：2016-06-14