1-[(4-Ethenylphenoxy)methyl]naphthalene | 1246537-31-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-[(4-Ethenylphenoxy)methyl]naphthalene
• CAS: 1246537-31-4
• 化学式: C₁₉H₁₆O
• 分子量: 260.335
• InChiKey: ZRNQMNWSWIMCFS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-[(4-Ethenylphenoxy)methyl]naphthalene 、 Phenyl-[4-[[4-[1-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)oxyethyl]phenyl]methoxy]phenyl]diazene 以 氯苯 为溶剂， 反应 1.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and characterization of low-molecular-weight azo-acetoxystyrene and azo-naphthalene oligomers via stable free radical polymerization (SFRP)

  摘要：

  作为通过稳定自由基聚合（SFRP）控制分子结构的一种方法，我们制备了一系列分子量（Mn）可控、多分散性低的低聚物（结构 2 和 3，n 值范围为 2 到 52）。通过 MALDI/MS（偶氮乙酰氧基苯乙烯低聚物 2 的峰间间隔为 162 m/z，偶氮萘低聚物 3 的峰间间隔为 260 m/z，对应于乙酰氧基苯乙烯（AS）和萘（Np）重复单元）获得了结构的确凿证据，核磁共振和 GPC 也提供了佐证。我们探索了两种合成途径。途径 1 通过将 TEMPO 封端的单体 1 与乙酰氧基苯乙烯进行 SFR 加成，生成偶氮乙酰氧基苯乙烯低聚物 2。在另一种途径 2 中，将 1 与 4-（1-甲氧基萘基）苯乙烯进行 SFR 加成，可直接得到偶氮萘低聚物 3。因此，本报告所述的受控结构方法实现了从低 Mn（氯苯、PhCl 溶剂）到相对高 Mn（块状）低聚物的合成，并以受控方式加入了萘基（供体）和偶氮苯基（受体）分子以及间隔分子。

  DOI：

  10.1139/v10-072
• 作为产物：
  描述：

  4-羟基苯乙烯 、 (氯甲基)萘 在 18-冠醚-6 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 36.0h， 以75%的产率得到1-[(4-Ethenylphenoxy)methyl]naphthalene
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and characterization of low-molecular-weight azo-acetoxystyrene and azo-naphthalene oligomers via stable free radical polymerization (SFRP)

  摘要：

  作为通过稳定自由基聚合（SFRP）控制分子结构的一种方法，我们制备了一系列分子量（Mn）可控、多分散性低的低聚物（结构 2 和 3，n 值范围为 2 到 52）。通过 MALDI/MS（偶氮乙酰氧基苯乙烯低聚物 2 的峰间间隔为 162 m/z，偶氮萘低聚物 3 的峰间间隔为 260 m/z，对应于乙酰氧基苯乙烯（AS）和萘（Np）重复单元）获得了结构的确凿证据，核磁共振和 GPC 也提供了佐证。我们探索了两种合成途径。途径 1 通过将 TEMPO 封端的单体 1 与乙酰氧基苯乙烯进行 SFR 加成，生成偶氮乙酰氧基苯乙烯低聚物 2。在另一种途径 2 中，将 1 与 4-（1-甲氧基萘基）苯乙烯进行 SFR 加成，可直接得到偶氮萘低聚物 3。因此，本报告所述的受控结构方法实现了从低 Mn（氯苯、PhCl 溶剂）到相对高 Mn（块状）低聚物的合成，并以受控方式加入了萘基（供体）和偶氮苯基（受体）分子以及间隔分子。

  DOI：

  10.1139/v10-072

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US20120301817A1

  公开（公告）日：2012-11-29

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
  申请人：INASAKI Takeshi

  公开号：US20130029255A1

  公开（公告）日：2013-01-31

  Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound (A) which contains at least one phenolic hydroxyl group and at least one group where a hydrogen atom in a phenolic hydroxyl group is substituted by a group represented by the following General Formula (1). (in the formula, each of R 11 and R 12 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group; X 11 represents an aryl group; M 11 represents a single bond or a divalent linking group; and Q 11 represents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, wherein the number of carbon atoms which are included in the group represented by -M 11 -Q 11 is 3 or more, and at least two of R 11 , R 12 , Q 11 , and X 11 may form a ring by bonding to each other)

  提供的是一种感光树脂组合物，其中包含至少含有一个酚羟基和至少一个氢原子被以下通式（1）所代表的基替换的基团的化合物（A）。（在通式中，R11和R12分别独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或芳基烷基；X11表示芳基；M11表示单键或二价连接基团；Q11表示烷基、环烷基或芳基，其中包含在-M11-Q11所代表的基团中的碳原子数为3或更多，并且R11、R12、Q11和X11中至少有两个可以通过相互键合形成环）
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20140099572A1

  公开（公告）日：2014-04-10

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a compound (P) containing at least one phenolic hydroxyl group and at least one group with a phenolic hydroxyl group whose hydrogen atom is replaced by any of groups of general formula (1) below.

  根据一种实施例，一种光致射线或辐射敏感的树脂组合物包括化合物（P），该化合物含有至少一个酚羟基和至少一个含有酚羟基的基团，该基团的氢原子被下列通式（1）的任何基团所替换。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK AND RESIST PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2707776B1

  公开（公告）日：2017-07-19
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP2721446A1

  公开（公告）日：2014-04-23