2-tert-butoxy-2-oxoethyl methacrylate | 86024-98-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-tert-butoxy-2-oxoethyl methacrylate
• 英文别名: methacrylic acid 2-tert-butoxy-2-oxoethyl diester；t-Butyl-2-methacryloyloxyacetate；[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 86024-98-8
• 化学式: C₁₀H₁₆O₄
• 分子量: 200.235
• InChiKey: RRRATAFQYAMFJW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  245.6±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.024±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-乙醇酸叔丁酯 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 5.0h， 以88%的产率得到2-tert-butoxy-2-oxoethyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  双酯结构单体及其制备方法和应用

  摘要：

  本发明提供了一种双酯结构单体及其制备方法和ArF光刻胶配方的应用。所述双酯结构单体的制备方法包括如下步骤有：将乙醇酸酯类溶解于反应溶剂中，配制成乙醇酸酯类溶液；在保护气氛中，将所述乙醇酸酯类溶液与三乙胺混合处理后，进行冷却处理，形成混合溶液；保持保护气氛不变，将所述甲基丙烯酰氯加入至所述混合溶液中进行酯化反应，生成双酯结构单体。所述双酯结构单体制备方法生成双酯结构单体具有双酯长侧链和小体积、高酸敏度的基团；赋予所述双酯结构单体合成的树脂具有较好的附着力和成膜性能、去保护反应效率和可塑性，其硬度和脆性得到了改善。而且制得的双酯酸保护结构单体具有较高的产率，副产物低，易分离纯化。

  公开号：

  CN112341337A

文献信息

• 193NM resist with improved post-exposure properties
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20040063024A1

  公开（公告）日：2004-04-01

  Acid-catalyzed positive resist compositions which are imageable with 193 nm radiation and/or possibly other radiation and are developable to form resist structures of improved development characteristics and improved etch resistance are enabled by the use of resist compositions containing imaging polymer component comprising an acid-sensitive polymer having a monomeric unit with a pendant group containing a remote acid labile moiety.

  使用酸催化正性光阻组分，可使用193纳米辐射和/或其他辐射进行成像，并可开发成具有改进开发特性和改进蚀刻抗性的光阻结构。这是通过使用含有成像聚合物组分的光阻组合物实现的，该聚合物组分包含具有带有远程酸敏感基团的偏挂基团的酸敏感聚合物单体单位。
• 193nm resist with improved post-exposure properties
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US07087356B2

  公开（公告）日：2006-08-08

  Acid-catalyzed positive resist compositions which are imageable with 193 nm radiation and/or possibly other radiation and are developable to form resist structures of improved development characteristics and improved etch resistance are enabled by the use of resist compositions containing imaging polymer component comprising an acid-sensitive polymer having a monomeric unit with a pendant group containing a remote acid labile moiety.

  使用酸催化的正性光阻组合物，可以使用193纳米辐射和/或可能的其他辐射进行成像，并且可以开发成具有改进开发特性和改进蚀刻抵抗力的光阻结构。这是通过使用包含成像聚合物组分的光阻组合物实现的，其中包含具有带有远程酸不稳定基团的挂链基团的酸敏感聚合物的单体单位。
• PolyMPC–Doxorubicin Prodrugs
  作者：Xiangji Chen、Sangram S. Parelkar、Elizabeth Henchey、Sallie Schneider、Todd Emrick

  DOI：10.1021/bc200667s

  日期：2012.9.19

  We demonstrate the conjugation of the cancer drug doxorubicin (DOX) to poly(methacryloyloxyethyl phosphorylcholine) (polyMPC), linked by hydrazone groups, using (1) a one-pot ATRP/click sequence, and (2) a post-polymerization conjugation strategy. While the one-pot method gave polyMPC-DOX conjugates in a facile single step, post-polymerization conjugation gave higher-molecular-weight polymers with very high DOX loadings. DOX release from the polyMPC backbone was pH-dependent (faster at pH 5.0 than at pH 7.4) owing to the hydrazone linkage. Half-life values of DOX release ranged from 2 to 40 h at pH 5.0. Cell culture experiments showed that highly loaded polyMPC-DOX conjugates exhibited higher intracellular drug accumulation and lower half-maximal inhibitory concentration (IC50) values, while a polymer with 30 wt % drug loading showed a maximum tolerated dose in the range of 30-50 mg/kg DOX equivalent weight in healthy mice.
• POLYMERS FOR ANTIFOULING COATINGS AND A PROCESS FOR THE PREPARATION THEREOF
  申请人：Jotun A/S

  公开号：EP0833870B1

  公开（公告）日：1999-09-08
• Verfahren zur Herstellung von polymeren Bindemitteln und deren Verwendung für Antifouling-Anstrichsysteme
  申请人：Witco GmbH

  公开号：EP0841380B1

  公开（公告）日：1999-08-25