3-[癸酰基(甲基)氨基]丙酸 | 21539-69-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 3-[癸酰基(甲基)氨基]丙酸
• 英文名称: N-decanoyl-N-methyl-β-alanine
• 英文别名: Caproyl methyl beta-alanine；3-[decanoyl(methyl)amino]propanoic acid
• CAS: 21539-69-5
• 化学式: C₁₄H₂₇NO₃
• mdl: MFCD12846090
• 分子量: 257.373
• InChiKey: QZYZGNKNVUBXGJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  403.7±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.995±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.857
• 拓扑面积：
  57.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-丁二醇 、 3-[癸酰基(甲基)氨基]丙酸 在 硫酸 作用下， 反应 6.0h， 以52%的产率得到N-decanoyl-N-methyl-β-alanine 1,3-butylene glycol diester
  参考文献：
  名称：

  クレンジング化粧料

  摘要：

  本发明旨在提供在皮肤上具有足够洗净力、且具有优秀的涂抹性和洗净后感触的组合物。解决手段包括：（A）选自由式（1-1）中表示的化合物及其盐，以及由自由式（1-2）中表示的化合物及其盐组成的群中选择的至少一种化合物或其盐［式中，各符号如说明书中所述］，以及（B）含有油剂的组合物。【选择图】无

  公开号：

  JP2017165660A

文献信息

• Polishing composition
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：US11339310B2

  公开（公告）日：2022-05-24

  The present invention provides a polishing composition having a high polishing speed and a low etching speed and capable of achieving sufficient flattening. The present invention is a polishing composition containing abrasive grains, an oxidizing agent, an acid, an anticorrosive containing a compound represented by the following formula (1) or a salt thereof, and a dispersing medium. (In the formula (1), R1 is a linear or branched alkyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms or a linear or branched alkenyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms, R2 is a single bond or an alkylene group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, and R3 is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms.)

  本发明提供了一种抛光组合物，它具有较高的抛光速度和较低的蚀刻速度，并能达到足够的平整度。 本发明是一种抛光组合物，含有磨粒、氧化剂、酸、含有下式（1）代表的化合物或其盐的防腐剂和分散介质。 (在式 (1) 中，R1 是具有 6 个或更多和 30 个或更少碳原子的直链或支链烷基，或具有 6 个或更多和 30 个或更少碳原子的直链或支链烯基，R2 是单键或具有 1 个或更多和 4 个或更少碳原子的亚烷基，R3 是氢原子或具有 1 个或更多和 10 个或更少碳原子的直链或支链烷基）。
• Polishing Composition
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：US20200062997A1

  公开（公告）日：2020-02-27

  The present invention provides a polishing composition having a high polishing speed and a low etching speed and capable of achieving sufficient flattening. The present invention is a polishing composition containing abrasive grains, an oxidizing agent, an acid, an anticorrosive containing a compound represented by the following formula (1) or a salt thereof, and a dispersing medium. (In the formula (1), R 2 is a linear or branched alkyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms or a linear or branched alkenyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms, R 2 is a single bond or an alkylene group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, and R 3 is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms.)