3-[癸酰基(甲基)氨基]丙酸 | 21539-69-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 3-[癸酰基(甲基)氨基]丙酸
• 英文名称: N-decanoyl-N-methyl-β-alanine
• 英文别名: Caproyl methyl beta-alanine；3-[decanoyl(methyl)amino]propanoic acid
• CAS: 21539-69-5
• 化学式: C₁₄H₂₇NO₃
• mdl: MFCD12846090
• 分子量: 257.373
• InChiKey: QZYZGNKNVUBXGJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  403.7±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.995±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.857
• 拓扑面积：
  57.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-丁二醇 、 3-[癸酰基(甲基)氨基]丙酸 在 硫酸 作用下， 反应 6.0h， 以52%的产率得到N-decanoyl-N-methyl-β-alanine 1,3-butylene glycol diester
  参考文献：
  名称：

  クレンジング化粧料

  摘要：

  本发明旨在提供在皮肤上具有足够洗净力、且具有优秀的涂抹性和洗净后感触的组合物。解决手段包括：（A）选自由式（1-1）中表示的化合物及其盐，以及由自由式（1-2）中表示的化合物及其盐组成的群中选择的至少一种化合物或其盐［式中，各符号如说明书中所述］，以及（B）含有油剂的组合物。【选择图】无

  公开号：

  JP2017165660A

文献信息

• Polishing composition
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：US11339310B2

  公开（公告）日：2022-05-24

  The present invention provides a polishing composition having a high polishing speed and a low etching speed and capable of achieving sufficient flattening. The present invention is a polishing composition containing abrasive grains, an oxidizing agent, an acid, an anticorrosive containing a compound represented by the following formula (1) or a salt thereof, and a dispersing medium. (In the formula (1), R1 is a linear or branched alkyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms or a linear or branched alkenyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms, R2 is a single bond or an alkylene group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, and R3 is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms.)

  本发明提供了一种抛光组合物，它具有较高的抛光速度和较低的蚀刻速度，并能达到足够的平整度。 本发明是一种抛光组合物，含有磨粒、氧化剂、酸、含有下式（1）代表的化合物或其盐的防腐剂和分散介质。 (在式 (1) 中，R1 是具有 6 个或更多和 30 个或更少碳原子的直链或支链烷基，或具有 6 个或更多和 30 个或更少碳原子的直链或支链烯基，R2 是单键或具有 1 个或更多和 4 个或更少碳原子的亚烷基，R3 是氢原子或具有 1 个或更多和 10 个或更少碳原子的直链或支链烷基）。
• Polishing Composition
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：US20200062997A1

  公开（公告）日：2020-02-27

  The present invention provides a polishing composition having a high polishing speed and a low etching speed and capable of achieving sufficient flattening. The present invention is a polishing composition containing abrasive grains, an oxidizing agent, an acid, an anticorrosive containing a compound represented by the following formula (1) or a salt thereof, and a dispersing medium. (In the formula (1), R 2 is a linear or branched alkyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms or a linear or branched alkenyl group having 6 or more and 30 or less carbon atoms, R 2 is a single bond or an alkylene group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, and R 3 is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 or more and 10 or less carbon atoms.)
• クレンジング化粧料
  申请人：味の素株式会社

  公开号：JP2017165660A

  公开（公告）日：2017-09-21

  【課題】本発明は、肌上での洗浄力が十分にあり、塗布性や洗浄後の感触に優れた組成物を提供することを目的とする。【解決手段】（Ａ）式（１−１）：で表される化合物及びその塩、ならびに式（１−２）：で表される化合物及びその塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物又はその塩［式中、各記号は明細書に記載の通りである。］、及び（Ｂ）油剤を含有する組成物。【選択図】なし

  本发明旨在提供在皮肤上具有足够洗净力、且具有优秀的涂抹性和洗净后感触的组合物。解决手段包括：（A）选自由式（1-1）中表示的化合物及其盐，以及由自由式（1-2）中表示的化合物及其盐组成的群中选择的至少一种化合物或其盐［式中，各符号如说明书中所述］，以及（B）含有油剂的组合物。【选择图】无