Die Erfindung betrifft eine strahlungsempfindliche Überzugsmasse und deren Verwendung als negativer Resist. Sie betrifft auch ein Verfahren zur Hsrstellung eines negativen Resistbildes.
Die strahlungaempfindliche Überzugsmasse umfaßt Reaktionsprodukte einer monoäthylenisch ungeaattigten Carbonsäure mit einem Epoxidharz, vorzugsweise mit einem Epichiorhydrin-2.2·Bis(4-hvdroxypheny)tpropan-Diglycidyläther-Epoxid und einem epoxidierten Novolak. harz; einer polyäthylenisch ungesättigten Verbindung; einem Photoinitiator und ggf. einem nichtreaktiven Verdünnungsmittel. Die Überzugsmasse kann zusätzlich ein Phenoxyharz enthalten.
Die erndungsgemäßen Überrugsmsssen weisen ausgezeichnete bilderzeugende und filmbildende Eigenschsften auf, so daß sie gleichzeitig als negative Resistmaterialien und zur Herstellung permanenter Schuttüberzüga verwendet werden können.
本发明涉及一种辐射敏感涂层材料及其作为底片抗蚀剂的用途。本发明还涉及一种制作底片抗蚀剂图像的工艺。
辐射敏感涂层组合物包括单
乙烯不饱和
羧酸与环氧
树脂的反应产物,最好是环氧表酸酐-2,2-双(4-hvdroxypheny)
丙烷二缩水甘油醚环氧化物和环氧化
酚醛
树脂;聚
乙烯不饱和化合物;光
引发剂和可选的非反应性稀释剂。涂料组合物还可能含有苯氧基
树脂。
本发明的涂料具有优异的成象和成膜性能,因此可同时用作底片抗蚀剂材料和生产永久性碎片涂料。