3-甲基-2-苯基戊-1-醇 | 84658-56-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 3-甲基-2-苯基戊-1-醇
• 英文名称: 3-methyl-2-phenyl-pentan-1-ol
• 英文别名: β-sec-butyl-phenethyl alcohol；3-Methyl-2-phenylpentan-1-ol
• CAS: 84658-56-0
• 化学式: C₁₂H₁₈O
• 分子量: 178.274
• InChiKey: BPCBJIKKAINGQY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  198.3±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.953±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-甲基-2-苯基戊-1-醇 在 氯化亚砜 、 二甲胺 作用下， 生成 N,N,3-三甲基-2-苯基戊烷-1-胺
  参考文献：
  名称：

  DE961170

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 乙醇 、 sodium 作用下， 生成 3-甲基-2-苯基戊-1-醇
  参考文献：
  名称：

  DE961170

  摘要：

  公开号：

文献信息

• PRODRUGS OF FUSED-BICYCLIC C5aR ANTAGONISTS
  申请人：CHEMOCENTRYX, INC.

  公开号：US20190300526A1

  公开（公告）日：2019-10-03

  The present disclosure provides, inter alia, Compounds of Formulae IA, IB, IC, IIA, IIB and IIC or pharmaceutically acceptable salts thereof that are modulators of the C5a receptor. Also provided are pharmaceutical compositions and methods of use including the treatment of diseases or disorders involving pathologic activation from C5a and non-pharmaceutical applications.

  本公开提供了化合物IA、IB、IC、IIA、IIB和IIC的结构，或其在药学上可接受的盐，这些化合物是C5a受体的调节剂。还提供了包括治疗涉及C5a病理性激活的疾病或疾病的药物组合物和使用方法，以及非药物应用。
• NOVEL COMPOUNDS THAT ARE ERK INHIBITORS
  申请人：Merck Sharp & Dohme Corp.

  公开号：EP2900223B1

  公开（公告）日：2017-10-25
• PHOTOMASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING PROCESS, AND PHOTOMASK PREPARATION PROCESS
  申请人：KOITABASHI Ryuji

  公开号：US20080305411A1

  公开（公告）日：2008-12-11

  A photomask blank has a resist film comprising (A) a base resin, (B) an acid generator, and (C) a basic compound. The resist film further comprises (D) a polymer comprising recurring units having a side chain having a fluorinated hydrocarbon group which contains a carbon atom to which a hydroxyl group is bonded and vicinal carbon atoms bonded thereto, the vicinal carbon atoms having in total at least two fluorine atoms bonded thereto. Addition of polymer (D) ensures uniform development throughout the resist film, enabling to form a resist pattern having high CD uniformity.
• US7494760B2
  申请人：——

  公开号：US7494760B2

  公开（公告）日：2009-02-24
• US7498126B2
  申请人：——

  公开号：US7498126B2

  公开（公告）日：2009-03-03

表征谱图