1-Bromo-4-(heptadecafluorooctane-1-sulfonyl)-benzene | 208396-07-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-Bromo-4-(heptadecafluorooctane-1-sulfonyl)-benzene
• 英文别名: 1-Bromo-4-(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctylsulfonyl)benzene
• CAS: 208396-07-0
• 化学式: C₁₄H₄BrF₁₇O₂S
• 分子量: 639.127
• InChiKey: QDVKPAMQCPCQOT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.8
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  42.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  19

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-Bromo-4-(heptadecafluorooctane-1-sulfonyl)-benzene 在 palladium diacetate 、 ammonium hydroxide 、 三乙胺 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 84.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  A new class of second-order non-linear optical material: stilbazolium benzimidazolate derived from alkylsulfonyl substituted stilbazole

  摘要：

  一种新型的斯堪诺铵苯并咪唑衍生物，即2-(4-{2-[4-(辛基磺酰基)苯基]乙烯}吡啶)苯并咪唑盐4a，通过4-{2-[4-(辛基磺酰基)苯基]乙烯}吡啶与2-氯苯并咪唑的季铵化反应制备而成，随后用氨水去质子化。将含有10%或20%质量分数的4a的聚(methyl methacrylate)（PMMA）薄膜通过旋涂法从其四氢呋喃溶液中获得，涂在普通的盖玻片基板上。获得薄膜的二次谐波生成（SHG）测量采用Maker fringe方法，使用Q开关Nd:YAG激光器（1064 nm）作为激发光束，经过电晕极化处理。含有10%或20%质量分数的4a的极化PMMA薄膜展示了二阶非线性光学（NLO）系数d33分别为7.6或11 pm V–1，显著高于含有10%质量分数的2-[4-(2-苯乙烯基)吡啶]苯并咪唑盐4c（d33为1.6 pm V–1）或2-{4-[2-(4-辛氧基苯基)乙烯]吡啶}苯并咪唑盐4d（d33为0.51 pm V–1）。含有4a、4c或4d的PMMA薄膜在线性吸收特性上没有显著差异。将辛基磺酰基引入斯堪诺基团的4′位，提高了二阶NLO系数。

  DOI：

  10.1039/a708620b
• 作为产物：
  描述：

  1-Bromo-4-heptadecafluorooctylsulfanyl-benzene 在 双氧水 、 溶剂黄146 作用下， 反应 1.0h， 以87%的产率得到1-Bromo-4-(heptadecafluorooctane-1-sulfonyl)-benzene
  参考文献：
  名称：

  A new class of second-order non-linear optical material: stilbazolium benzimidazolate derived from alkylsulfonyl substituted stilbazole

  摘要：

  一种新型的斯堪诺铵苯并咪唑衍生物，即2-(4-{2-[4-(辛基磺酰基)苯基]乙烯}吡啶)苯并咪唑盐4a，通过4-{2-[4-(辛基磺酰基)苯基]乙烯}吡啶与2-氯苯并咪唑的季铵化反应制备而成，随后用氨水去质子化。将含有10%或20%质量分数的4a的聚(methyl methacrylate)（PMMA）薄膜通过旋涂法从其四氢呋喃溶液中获得，涂在普通的盖玻片基板上。获得薄膜的二次谐波生成（SHG）测量采用Maker fringe方法，使用Q开关Nd:YAG激光器（1064 nm）作为激发光束，经过电晕极化处理。含有10%或20%质量分数的4a的极化PMMA薄膜展示了二阶非线性光学（NLO）系数d33分别为7.6或11 pm V–1，显著高于含有10%质量分数的2-[4-(2-苯乙烯基)吡啶]苯并咪唑盐4c（d33为1.6 pm V–1）或2-{4-[2-(4-辛氧基苯基)乙烯]吡啶}苯并咪唑盐4d（d33为0.51 pm V–1）。含有4a、4c或4d的PMMA薄膜在线性吸收特性上没有显著差异。将辛基磺酰基引入斯堪诺基团的4′位，提高了二阶NLO系数。

  DOI：

  10.1039/a708620b