Methyl 2-methylprop-2-enoate;8-methylnonyl 2-methylprop-2-enoate | 70632-13-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: Methyl 2-methylprop-2-enoate;8-methylnonyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 70632-13-2
• 化学式: C19H34O4
• 分子量: 326.5
• InChiKey: FZLZYZGFUZFHSN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.84
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.68
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Porous materials
  申请人：Shipley Company LLC

  公开号：EP1088848A1

  公开（公告）日：2001-04-04

  Porous dielectric materials having low dielectric constants useful in electronic component manufacture are disclosed along with methods of preparing the porous dielectric materials. Also disclosed are methods of forming integrated circuits containing such porous dielectric materials.

  本文公开了具有低介电常数的多孔介电材料以及制备多孔介电材料的方法，这些材料可用于电子元件制造。还公开了形成含有这种多孔介电材料的集成电路的方法。
• Coating compositions for photolithography
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US10754249B2

  公开（公告）日：2020-08-25

  In a first aspect, methods are provided that comprise: (a) applying a curable composition on a substrate; (b) applying a hardmask composition above the curable composition; (c) applying a photoresist composition layer above the hard mask composition, wherein one or more of the compositions are removed in an ash-free process. In a second aspect, methods are provided that comprise (a) applying an organic composition on a substrate; (b) applying a photoresist composition layer above the organic composition, wherein the organic composition comprises a material that produce an alkaline-soluble group upon thermal and/or radiation treatment. Related compositions also are provided.

  在第一方面，提供的方法包括：(a) 在基底上涂敷可固化组合物；(b) 在可固化组合物上方涂敷硬掩膜组合物；(c) 在硬掩膜组合物上方涂敷光阻组合物层，其中一种或多种组合物在无灰工艺中去除。第二方面，提供的方法包括：(a) 在基底上涂敷有机组合物；(b) 在有机组合物上方涂敷光阻组合物层，其中有机组合物包括在热处理和/或辐射处理后产生碱溶性基团的材料。还提供了相关的组合物。
• US6420441B1
  申请人：——

  公开号：US6420441B1

  公开（公告）日：2002-07-16
• US6602804B2
  申请人：——

  公开号：US6602804B2

  公开（公告）日：2003-08-05