1-adamantylethyl methacrylate | 212580-04-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-adamantylethyl methacrylate
• 英文别名: 1-(1-Adamantyl)ethyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 212580-04-6
• 化学式: C₁₆H₂₄O₂
• 分子量: 248.365
• InChiKey: MBLOHZYKAJUJLT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.81
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-(1-金刚烷基)乙醇 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 18.0h， 以92%的产率得到1-adamantylethyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  两性无规共聚物在水中的合成及单链折叠

  摘要：

  由聚（乙二醇）（PEG）和烷基侧基组成的两亲无规甲基丙烯酸酯共聚物通过分子内疏水相互作用在水中进行可逆的单链自折叠，以生成动态单分子疏水纳米空间，其形状相似但结构相对相对不同胶束和微凝胶星形聚合物。这些共聚物是通过钌催化的PEG甲基丙烯酸甲酯（PEGMA）和甲基丙烯酸烷基酯（RMA; R，-C n H 2 n +1，n= 1-18），其中共聚物的组成，聚合度和疏水性R部分有所不同。详细的结构和链折叠特征表明：单链折叠更受欢迎，RMA含量为每条链20–40 mol％；疏水内部隔室（或自折叠结构）即使在高聚合物浓度（至多约6 wt％）下也很稳定；加入甲醇或升高溶液温度会发生折叠-未折叠的转变，最终达到高于较低临界溶液温度的相分离。

  DOI：

  10.1021/ma402355v

文献信息

• MULTIBRANCHED POLYMERS AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF
  申请人：NIPPON SODA CO., LTD.

  公开号：EP1780224A1

  公开（公告）日：2007-05-02

  The present invention provides a multibranched polymer represented by the following formula (I), and a method for producing the multibranched polymer: wherein A represents an organic group having 3 or more branched chains, Xa represents a linking group containing any atom of Groups 14 to 16 in the Periodic Table, Y represents a functional group having a structure capable of having an active halogen atom, Q represents an arm moiety having a repeating unit derived from a polymerizable unsaturated bond, m1 represents any integer of 1 to the number of branched chains of A, m2 represents the number of branched chains of A, n1 represents an integer of 0 or 1 or more, and Ra represents an organic group which is not associated with the polymerization reaction.

  本发明提供了由下式（I）表示的多支化聚合物，以及生产这种多支化聚合物的方法： 其中 A 代表具有 3 个或 3 个以上支链的有机基团，Xa 代表含有元素周期表中第 14 至 16 族原子的连接基团，Y 代表具有可具有活性卤原子结构的官能团，Q 代表具有由可聚合不饱和键衍生的重复单元的臂分子，m1 代表 1 至 A 的支链数的任意整数，m2 代表 A 的支链数，n1 代表 0 或 1 或以上的整数，Ra 代表与聚合反应无关的有机基团。
• Positive resist composition and pattern forming method using the same
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP1975712A2

  公开（公告）日：2008-10-01

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正抗蚀剂组合物，包括(A) 在树脂 (A) 的主链末端具有在 248 纳米波长有吸收的基团的树脂，以及使用该组合物的图案形成方法。
• Resist composition
  申请人：——

  公开号：US20030180659A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  The present invention provides a resist composition comprising: a resin which has a structural unit represented by the following formula (I) 1 wherein R 1 represents hydrogen or methyl and R 2 represents hydrogen or hydroxyl, and which itself is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution but becomes soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid; a solvent containing at least one selected from the group consisting of propylene glycol monomethyl ether, methyl 2-hydroxyisobtyrate and 3-methoxy-1-butanol; and an acid generating agent.

  本发明提供了一种抗蚀剂组合物，其中包括：一种树脂，其结构单元由下式（I）表示 1 其中 R 1 代表氢或甲基，R 2 代表氢或羟基，其本身不溶于或微溶于碱水溶液，但在酸的作用下可溶于碱水溶液；溶剂，其中至少含有一种选自丙二醇单甲醚、2-羟基异丁酸甲酯和 3-甲氧基-1-丁醇；以及酸生成剂。
• Chemical amplification type positive resist
  申请人：Sumitomo Chemical Company, Limited

  公开号：EP1041442B1

  公开（公告）日：2004-10-27
• US6348297B1
  申请人：——

  公开号：US6348297B1

  公开（公告）日：2002-02-19