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tris(2,6-dimethylphenyl)chlorogermane | 65523-26-4

分子结构分类

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
tris(2,6-dimethylphenyl)chlorogermane
英文别名
chloro-tris(2,6-dimethylphenyl)germane
tris(2,6-dimethylphenyl)chlorogermane化学式
CAS
65523-26-4
化学式
C24H27ClGe
mdl
——
分子量
423.521
InChiKey
SXFWBAXTEDOUQM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
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物化性质

  • 沸点:
    539.7±50.0 °C(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.74
  • 重原子数:
    26.0
  • 可旋转键数:
    3.0
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.25
  • 拓扑面积:
    0.0
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    0.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    tris(2,6-dimethylphenyl)chlorogermane 在 (CN(R)CH2CH2N(R))2, R=Me or Et 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 生成
    参考文献:
    名称:
    三芳基-甲硅烷基,-锗烷基和-锡烷基。MAr 3(M = Si,Ge或Sn和Ar = 2,4,6-Me 3 C 6 H 2)和。Ge(2,6-Me 2 C 6 H 3)3:合成与ESR研究
    摘要:
    以三芳基金属为中心的自由基。MAr 3(M = Si,Ge或Sn; Ar = 2,6-Me 2 C 6 H 3或2,4,6-Me 3 C 6 H 2)已由适当的三芳基金属氯化物MAr 3 Cl制备,以及在低温下在甲苯中紫外线照射下的富电子烯烃[ R] 2(R = Me或Et)。三芳基锗烷基自由基具有持久性(t > 24 h,20°C),而类似的锡和硅自由基仅在低于-20°C的恒定辐射下稳定。锗自由基和锗的ESR谱。Si(2,4,6-Me 3C 6 H 2)3(它是第一个被光谱鉴定的三芳基甲硅烷基基团)显示出所有质子偶合的等价等效物,这是由于芳族环扭曲成围绕金属的“螺旋桨”排列所致。还报道了这些自由基的前体的合成和表征。
    DOI:
    10.1016/s0022-328x(00)81378-9
  • 作为产物:
    描述:
    tri-2,6-xylylgermanium hydride 在 四氯化碳偶氮二异丁腈 作用下, 以 四氯化碳 为溶剂, 以73%的产率得到tris(2,6-dimethylphenyl)chlorogermane
    参考文献:
    名称:
    三芳基-甲硅烷基,-锗烷基和-锡烷基。MAr 3(M = Si,Ge或Sn和Ar = 2,4,6-Me 3 C 6 H 2)和。Ge(2,6-Me 2 C 6 H 3)3:合成与ESR研究
    摘要:
    以三芳基金属为中心的自由基。MAr 3(M = Si,Ge或Sn; Ar = 2,6-Me 2 C 6 H 3或2,4,6-Me 3 C 6 H 2)已由适当的三芳基金属氯化物MAr 3 Cl制备,以及在低温下在甲苯中紫外线照射下的富电子烯烃[ R] 2(R = Me或Et)。三芳基锗烷基自由基具有持久性(t > 24 h,20°C),而类似的锡和硅自由基仅在低于-20°C的恒定辐射下稳定。锗自由基和锗的ESR谱。Si(2,4,6-Me 3C 6 H 2)3(它是第一个被光谱鉴定的三芳基甲硅烷基基团)显示出所有质子偶合的等价等效物,这是由于芳族环扭曲成围绕金属的“螺旋桨”排列所致。还报道了这些自由基的前体的合成和表征。
    DOI:
    10.1016/s0022-328x(00)81378-9
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文献信息

  • Über sterisch gehinderte freie radikale
    作者:Wilhelm P. Neumann、Klaus-Dieter Schultz、Robert Vieler
    DOI:10.1016/0022-328x(84)85144-x
    日期:1984.3
    The SiSi bond in hexamesityldisilane dissociates reversibly even between −60 and −32°C (ΔHdiss 19.0 ± 2 kcal mol−1) and the GeGe bond in hexamesityldigermane reversibly between −12 and +53°C (ΔH 20.7 ± 2 kcal mol−1). The generated radicals Mes3Si. or Mes3Ge. react irreversibly, e.g. by substituting aromatics or abstracting H. Further hexaaryldigermanes (aryl = 2,6-Me2-phenyl, 2,3,4,6-Me4-phenyl,
    六甲基乙硅烷中的SiSi键甚至在-60至−32°C(ΔH diss 19.0±2 kcal mol -1)之间可逆地解离,而六甲基二茂铁中的GeGe键则在-12至+ 53°C(ΔH之间)可逆地解离。20.7±2 kcal mol -1)。生成的自由基Mes 3 Si 。或Mes 3 Ge 。不可逆地反应,例如通过取代芳族化合物或抽象H。其他六芳基二茂铁(芳基= 2,6-Me 2-苯基,2,3,4,6-Me 4-苯基,2,3,4,5,6-Me 5 -苯基和2,4,6-Et 3-苯基)也可逆地解离。提到的所有六有机二硅烷二锗烷以及其他几种,以及许多前体都是首次制备,其中一些经历了相当大的困难之后。
  • Selective synthesis of tetraarylgermanes and triarylgermanium halides
    作者:Melanie Wolf、Astrid Falk、Michaela Flock、Ana Torvisco、Frank Uhlig
    DOI:10.1016/j.jorganchem.2017.09.027
    日期:2017.11
    A series of novel and previously published tetraarylgermanes aryl4Ge (aryl = m-tolyl, 3,4-xylyl, 3,5-xylyl, 2-naphthyl) and triarylgermanium halides aryl3GeX (aryl = o-tolyl, 2,4-xylyl, 2,5-xylyl, 2,6-xylyl, 1-naphthyl, 2,4,6-mesityl, X = Cl, Br) were synthesized and characterized. All solids were investigated using single crystal X-ray diffractometry in order to elucidate the molecular structures
    一系列新颖的和先前公布tetraarylgermanes芳4葛(芳= 米间-甲苯基,3,4-二甲苯基,3,5-二甲苯基,2-基)和triarylgermanium卤化物芳3 GEX(芳=  Õ甲苯基,2,4-合成并表征了对-二甲苯基,2,5-二甲苯基,2,6-二甲苯基,1-基,2,4,6-间苯三甲,X = Cl,Br)。为了阐明分子结构,使用单晶X射线衍射法研究了所有固体。就对产物形成的影响而言,已经研究了所用芳基残基的取代方式的影响。
  • NEUMANN, W. P.;SCHULTZ, K. -D.;VIELER, R., J. ORGANOMET. CHEM., 1984, 264, N 1-2, 179-191
    作者:NEUMANN, W. P.、SCHULTZ, K. -D.、VIELER, R.
    DOI:——
    日期:——
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