3-Trifluoromethyl-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylic acid | 434-68-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 酰卤
• 英文名称: 3-Trifluoromethyl-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylic acid
• 英文别名: 3-(trifluoromethyl)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylic acid
• CAS: 434-68-4
• 化学式: C₉H₉F₃O₂
• 分子量: 206.164
• InChiKey: PZNNUYLEQUVQLC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  256.8±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.433±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-Trifluoromethyl-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylic acid 在 溴 、 碳酸氢钠 作用下， 生成 3-bromo-5-trifluoromethyl-2,6-cyclo-norbornane
  参考文献：
  名称：

  Stereochemistry of the Diels-Alder Reaction. I. 4,4,4-Trifluorocrotonic Acid as Dienophile¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01595a034
• 作为产物：
  描述：

  ethyl 3-(trifluoromethyl)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylate 、 sodium hydroxide 、 盐酸 在 正己烷 、 水 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 3-Trifluoromethyl-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  Monomers for photoresists bearing acid-labile groups of reduced optical density

  摘要：

  提供用于形成光刻胶的单体和聚合物。更具体地说，提供了用于微影的光刻胶、单体和聚合物，特别是具有降低光密度的酸敏基团的单体。由此产生的光刻胶在157nm光下具有改善的透明度。光刻胶组合物由至少一种不溶于水的酸分解聚合物混合而成，该聚合物是由至少一种含有公式—OC（CH3）2CF3的酸敏基团的单体单元制备而成，并且在约157nm的紫外辐射下具有相当的透明度，以及至少一种光酸发生剂，能够在约157nm的激活能量下产生酸。

  公开号：

  US20060008730A1

文献信息

• [EN] CHIRAL AUXILIARIES AND USES THEREOF<br/>[FR] AUXILIAIRES CHIRAUX ET LEURS UTILISATIONS
  申请人：UNIV OF NEW ENGLAND

  公开号：WO2019060953A1

  公开（公告）日：2019-04-04

  The present invention relates to chiral auxiliaries and the syntheses thereof and uses thereof.

  本发明涉及手性辅助剂及其合成和用途。
• Fluorinated molecules and methods of making and using same
  申请人：——

  公开号：US20030232276A1

  公开（公告）日：2003-12-18

  Provided are polymers derived from fluoroalkyl norbornenes, fluorinated crotonates, fluorinated allyl alcohols, and combinations of two or more thereof for use in a wide variety of applications, including photoresist compositions. Also provided are methods for producing the fluoroalkyl norbornenes, fluorinated crotonates, and fluorinated allyl alcohols for use in the present polymers.

  本发明提供了由氟烷基降冰片烯、氟化巴豆酸盐、氟化烯丙基醇以及其中两种或两种以上的组合物衍生的聚合物，可用于多种应用领域，包括光刻胶组合物。此外，还提供了用于本聚合物的氟烷基降冰片烯、氟化巴豆酸盐和氟化烯丙基醇的生产方法。
• Stereochemistry of the Diels-Alder reaction. V. Fluorinated trans-olefinic acids and derivatives with cyclopentadiene
  作者：Earl T. McBee、Michael J. Keogh、Robert P. Levek、Eugene P. Wesseler

  DOI：10.1021/jo00944a002

  日期：1973.2
• FLUORINATED MOLECULES AND METHODS OF MAKING AND USING SAME
  申请人：Honeywell International Inc.

  公开号：EP1476788A2

  公开（公告）日：2004-11-17
• HIGH ETCH RESISTANT UNDERLAYER COMPOSITIONS FOR MULTILAYER LITHOGRAPHIC PROCESSES
  申请人：De Binod B.

  公开号：US20080206667A1

  公开（公告）日：2008-08-28

  An etch resistant thermally curable Underlayer for use in a multiplayer liyhographic process to produce a photolithographic bilayer coated substrate, the composition having: (a) at least one cycloolefin polymer comprising at least one repeating unit of Structure (I), and at least one repeating unit of Structure (II), and optionally at least one repeating unit of Structure (III) with the proviso that neither Structure (I) nor Structure (II) nor Structure (III) contains acid sensitive groups. b) at least one cross-linking agent selected from the group consisting of an amino or phenolic cross-linking agent; c) a least one thermal acid generator (TAG); d) at lest one solvent; and e) optionally, at least one surfactant.