1-Ethoxyethyl 4-cyano-4-[[2-cyano-5-(1-ethoxyethoxy)-5-oxopentan-2-yl]diazenyl]pentanoate | 957580-93-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-Ethoxyethyl 4-cyano-4-[[2-cyano-5-(1-ethoxyethoxy)-5-oxopentan-2-yl]diazenyl]pentanoate
• CAS: 957580-93-7
• 化学式: C₂₀H₃₂N₄O₆
• 分子量: 424.497
• InChiKey: ZUBAWCXOKKEBFO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  16
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  143
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4,4'-偶氮双(4-氰基戊酸) 、 乙烯基乙醚 在 三氟乙酸 作用下， 以 丁酮 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 4-Cyano-4-[[2-cyano-5-(1-ethoxyethoxy)-5-oxopentan-2-yl]diazenyl]pentanoic acid 、 1-Ethoxyethyl 4-cyano-4-[[2-cyano-5-(1-ethoxyethoxy)-5-oxopentan-2-yl]diazenyl]pentanoate
  参考文献：
  名称：

  Copolymer for positive type lithography, polymerization initiator used in production of said copolymer, and composition for semiconductor lithography

  摘要：

  一种用于正式光刻的共聚物，至少具有一个重复单元（A），其具有以下结构，其中一种碱溶性基团由酸解离、抑制溶解的基团保护，表示为以下公式（A）[在公式（A）中，R10是氢原子或可被氟原子取代的碳氢基团；R11是交联的脂环烃基团；n是0或1的整数；R12是酸解离、抑制溶解的基团]，以及一个端基结构（B），其具有以下结构，其中一种碱溶性基团由酸解离、抑制溶解的基团保护，表示为以下公式（B）[在公式（B）中，R21是可能含有氮原子的碳氢基团；R22是酸解离、抑制溶解的基团；p是与共聚物主链结合的位置]。

  公开号：

  US20120071638A1

文献信息

• Copolymer for positive type lithography, polymerization initiator used in production of said copolymer, and composition for semiconductor lithography
  申请人：Iijima Minoru

  公开号：US20120071638A1

  公开（公告）日：2012-03-22

  A copolymer for positive type lithography, having at least a recurring unit (A) having a structure wherein an alkali-soluble group is protected by an acid-dissociating, dissolution-suppressing group, represented by the following formula (A) [in the formula (A), R 10 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted by fluorine atom; R 11 is a crosslinked, alicyclic hydrocarbon group; n is an integer of 0 or 1; and R 12 is an acid-dissociating, dissolution-suppressing group], and a terminal structure (B) having a structure wherein an alkali-soluble group is protected by an acid-dissociating, dissolution-suppressing group, represented by the following formula (B) [in the formula (B), R 21 is a hydrocarbon group which may contain nitrogen atom; R 22 is an acid-dissociating, dissolution-suppressing group; and p is a site of bonding with copolymer main chain].

  一种用于正式光刻的共聚物，至少具有一个重复单元（A），其具有以下结构，其中一种碱溶性基团由酸解离、抑制溶解的基团保护，表示为以下公式（A）[在公式（A）中，R10是氢原子或可被氟原子取代的碳氢基团；R11是交联的脂环烃基团；n是0或1的整数；R12是酸解离、抑制溶解的基团]，以及一个端基结构（B），其具有以下结构，其中一种碱溶性基团由酸解离、抑制溶解的基团保护，表示为以下公式（B）[在公式（B）中，R21是可能含有氮原子的碳氢基团；R22是酸解离、抑制溶解的基团；p是与共聚物主链结合的位置]。