triphenylantimony dipropenoate | 17363-20-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenylantimony dipropenoate
• 英文别名: triphenylantimony diacrylate；[triphenyl(prop-2-enoyloxy)-λ5-stibanyl] prop-2-enoate
• CAS: 17363-20-1
• 化学式: C₂₄H₂₁O₄Sb
• 分子量: 495.178
• InChiKey: UJVQFCJAKSKTCZ-UHFFFAOYSA-L

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.56
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylantimony dipropenoate 在 偶氮二异丁腈 氮 作用下， 以 甲基丙烯酸甲酯 为溶剂， 反应 12.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  Group V pentavalent atom-containing compositions

  摘要：

  一种分子式为：##STR1## 的化合物，其中M选自元素周期表第V族的五价原子组成的组；R.sub.1、R.sub.2和R.sub.3选自可与M键合的取代基组成的组；X是电子吸引基团；A是可与其他化合物的兼容功能基团发生缩合或加成反应的连接基团；R.sub.4是X和A基团之间的可选连接基团；B选自R.sub.1、R.sub.2、R.sub.3、O--X--R.sub.4).sub.n A和O--X--R.sub.5组成的组，其中R.sub.5选自R.sub.1、R.sub.2和R.sub.3；n为整数0或1。这些含五价原子的组成物可以与单体、预聚物或聚合物反应形成聚合物。这些组成物和聚合物具有阻燃性能。

  公开号：

  US04052369A1
• 作为产物：
  描述：

  三苯基氧化锑 、 丙烯酸 生成 triphenylantimony dipropenoate
  参考文献：
  名称：

  Group V pentavalent atom-containing compositions

  摘要：

  一种分子式为：##STR1## 的化合物，其中M选自元素周期表第V族的五价原子组成的组；R.sub.1、R.sub.2和R.sub.3选自可与M键合的取代基组成的组；X是电子吸引基团；A是可与其他化合物的兼容功能基团发生缩合或加成反应的连接基团；R.sub.4是X和A基团之间的可选连接基团；B选自R.sub.1、R.sub.2、R.sub.3、O--X--R.sub.4).sub.n A和O--X--R.sub.5组成的组，其中R.sub.5选自R.sub.1、R.sub.2和R.sub.3；n为整数0或1。这些含五价原子的组成物可以与单体、预聚物或聚合物反应形成聚合物。这些组成物和聚合物具有阻燃性能。

  公开号：

  US04052369A1

文献信息

• Thermodynamic characteristics of triphenylantimony diacrylate
  作者：I. A. Letyanina、A. V. Markin、N. N. Smirnova、A. V. Gushchin、D. V. Shashkin

  DOI：10.1134/s0036024412080079

  日期：2012.8

  treated using the Debye theory of the heat capacity of solids and its multifractal model. The type of the structure topology was determined. The standard thermodynamic functions C o p (T), H o(T) − H o(0), S o(T), and G o(T) − H o(0) of the compound in the crystal state were calculated from the obtained experimental data in the range from T → 0 to 428 K. The standard entropy of the formation of the crystalline

  在6-350 K的绝热真空量热计和330-450 K的差示扫描量热仪中研究了三丙烯酸二苯三锑锑Ph 3 Sb（O 2 CCH = CH 2）2的热容量。熔点估计为428.4±0.5K。伴随该物质的部分分解。低温（20开尔≤ Ť ≤50 K）的热容量是使用固体的热容量和其多重分形模型的德拜理论处理。确定了结构拓扑的类型。标准热力学函数C o p（T），H o（T ）-根据获得的T →0到428 K范围内的实验数据计算晶体状态下化合物的H o（0），S o（T）和G o（T）-H o（0）确定了在T＝ 298.15K下形成结晶化合物Ph 3 Sb（O 2 CCH ＝ CH 2）2的标准熵。
• [EN] LITHOGRAPHY COMPOSITIONS AND METHODS FOR FORMING RESIST PATTERNS AND/OR MAKING SEMICONDUCTOR DEVICES<br/>[FR] COMPOSITIONS DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉS DE FORMATION DE MOTIFS DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET/OU DE FABRICATION DE DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEUR
  申请人：[en]THE RESEARCH FOUNDATION FOR THE STATE UNIVERSITY OF NEW YORK

  公开号：WO2023158848A2

  公开（公告）日：2023-08-24

  The present disclosure relates to compounds and use thereof as film or lithographic compositions such as EUV photoresist films. More particularly, embodiments of the disclosure provide lithography compositions and methods of depositing radiation sensitive films, which can be used for patterning applications with UV light, EUV light or electron-beam radiation to form high resolution patterns with low line width roughness. In embodiments, novel ligands are provided for forming radiation sensitive film compositions.