Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0097864A1
公开(公告)日:1984-01-11
Es wird ein durch Strahlung polymerisierbares Gemisch beschrieben, das ein polymeres Bindemittel, einen durch Strahlung aktivierbaren Polymerisationsinitiator und eine polymerisierbare Verbindung einer der allgemeinen Formeln 1 und II
und
enthält, worin
R1 eine Phenylen-, Biphenyldiylgruppe oder eine aus zwei über eine Brücke verbundenen Phenylenresten gebildete Gruppe ist, wobei die Brücke ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine Sulfongruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylen- oder Cyploalkylengruppe oder eine Gruppe der Formel (O-Alkylen)nO mit n = 1-3 ist,
R2 ein Sauerstoffatom oder die Gruppe CH2-CH2-CO,
R3 ein Wasserstoffatom oder ein Methylrest und
R4 ein Wasserstoffatom oder der Rest
ist. Das Gemisch wird zur Herstellung photopolymerisierbarer. Druck platten und von Photoresists verwendet und zeichnet sich durch Unempfindlichkeit gegen Sauerstoff aus.
描述了一种可辐射聚合的混合物,它由聚合物粘合剂、可辐射活化的聚合引发剂和通式 1 和 II 之一的可聚合化合物组成
和
其中
R1 是亚苯基或联苯基,或由两个亚苯基通过桥连接而成的基团,桥是氧原子或硫原子、砜基、任选取代的亚烷基或环亚烷基或式 (O- 烷基)nO(其中 n = 1-3)的基团、
R2 是氧原子或基团 CH2-CH2-CO、
R3 是氢原子或甲基,以及
R4 是氢原子或基
基。该混合物用于生产可光聚合物。该混合物用于生产可光聚合的印版和光刻胶,其特点是对氧不敏感。