Pent-3-en-2-yl 2-methylprop-2-enoate | 194089-52-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Pent-3-en-2-yl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 194089-52-6
• 化学式: C₉H₁₄O₂
• 分子量: 154.21
• InChiKey: SFSOZIRLFWBKOO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.44
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-戊烯-2-醇 、 三乙胺 、 甲基丙烯酰氯 在 水 、 4-甲氧基苯酚 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 6.0h， 以to obtain 42.4 g of 1-methyl-2-butenyl methacrylate的产率得到Pent-3-en-2-yl 2-methylprop-2-enoate
  参考文献：
  名称：

  Resist composition

  摘要：

  本发明提供了一种抗蚀组合物，其包括具有酸敏感基团的结构单元的聚合物（a）和辐射敏感化合物（b），该辐射敏感化合物（b）在暴露于激活辐射下形成酸，其中聚合物（a）是通过聚合10至100重量％的（甲基）丙烯酸酯（i）获得的聚合物，其具有至少两个取代基的烯丙基醇残基作为醇残基，并且0至90重量％的与（甲基）丙烯酸酯共聚的单体（ii），并具有优异的敏感性，分辨率和耐热性，以及利用抗蚀组合物制备图案的过程。

  公开号：

  US06309795B1

文献信息

• Resist composition
  申请人：Nippon Zeon Co., Ltd.

  公开号：US06309795B1

  公开（公告）日：2001-10-30

  The invention provides a resist composition which comprises a polymer (a) having structural units with an acid-labile group, and a radiation-sensitive compound (b) which forms an acid upon exposure to activated radiation, wherein the polymer (a) is a polymer obtained by polymerizing 10 to 100 wt. % of a (meth)acrylic ester (i) having, as an alcohol residue, an allyl group with at least two substituent groups and 0 to 90 wt. % of a monomer (ii) copolymerizable with the (meth)acrylic ester, and has excellent sensitivity, resolution and heat resistance, and a pattern forming process making use of the resist composition.

  本发明提供了一种抗蚀组合物，其包括具有酸敏感基团的结构单元的聚合物（a）和辐射敏感化合物（b），该辐射敏感化合物（b）在暴露于激活辐射下形成酸，其中聚合物（a）是通过聚合10至100重量％的（甲基）丙烯酸酯（i）获得的聚合物，其具有至少两个取代基的烯丙基醇残基作为醇残基，并且0至90重量％的与（甲基）丙烯酸酯共聚的单体（ii），并具有优异的敏感性，分辨率和耐热性，以及利用抗蚀组合物制备图案的过程。