bromoethanoic acid 2-ethyl-2-adamantanyl ester | 612807-52-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: bromoethanoic acid 2-ethyl-2-adamantanyl ester
• 英文别名: bromoacetic acid 2-ethyl-2-adamantyl ester；(2-Ethyl-2-adamantyl) 2-bromoacetate
• CAS: 612807-52-0
• 化学式: C₁₄H₂₁BrO₂
• 分子量: 301.224
• InChiKey: BHOARFGAGMUNKW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.93
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• COMPOUND AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2100870A1

  公开（公告）日：2009-09-16

  A compound shown by the following formula (1) can be used as a material for a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film which effectively responds to electron beams or the like, exhibits low roughness, and can form a high precision minute pattern in a stable manner.

  下式（1）所示的化合物可用作辐射敏感组合物的材料，该组合物能够形成对电子束等有效响应的抗蚀剂薄膜，粗糙度低，并能稳定地形成高精度的微小图案。
• Polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030194645A1

  公开（公告）日：2003-10-16

  A resist composition comprising a fluorinated polymer having carboxylate pendants and with a weight average molecular weight of 1,000-500,000 as a base resin is sensitive to high-energy radiation below 200 nm, has high transparency, resolution and plasma etching resistance, and is suited for lithographic microprocessing.

  一种抗蚀剂组合物包含一种具有羧酸盐悬饰且重量平均分子量为 1,000-500,000 的氟化聚合物作为基础树脂，该抗蚀剂组合物对 200 纳米以下的高能辐射敏感，具有高透明度、高分辨率和耐等离子刻蚀性，适合用于光刻微加工。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2080750B1

  公开（公告）日：2020-07-29
• US6790591B2
  申请人：——

  公开号：US6790591B2

  公开（公告）日：2004-09-14
• US8110334B2
  申请人：——

  公开号：US8110334B2

  公开（公告）日：2012-02-07