2-(Adamantan-1-yloxy)-2-methyl-propionic acid | 3716-76-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-(Adamantan-1-yloxy)-2-methyl-propionic acid
• 英文别名: 2-(1-Adamantyloxy)-2-methylpropanoic acid
• CAS: 3716-76-5
• 化学式: C₁₄H₂₂O₃
• 分子量: 238.327
• InChiKey: JOFUWAMVJYTQAE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.93
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

文献信息

• Chemically amplified resist material and pattern formation method using the same
  申请人：Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

  公开号：EP1734407A2

  公开（公告）日：2006-12-20

  In a pattern formation method, a resist film made of a chemically amplified resist material including a first polymer having hemiacetal or hemiketal is formed on a substrate. Then, with a liquid provided on the resist film, pattern exposure is performed by selectively irradiating the resist film with exposing light. After the pattern exposure, the resist film is developed so as to form a resist pattern made of the resist film.

  在一种图案形成方法中，在基板上形成由化学放大抗蚀剂材料（包括具有半缩醛或半缩酮的第一聚合物）制成的抗蚀剂薄膜。然后，在抗蚀剂薄膜上提供液体，通过选择性地用曝光光照射抗蚀剂薄膜来进行图案曝光。图案曝光后，对抗蚀剂薄膜进行显影，以形成由抗蚀剂薄膜制成的抗蚀剂图案。
• US7314703B2
  申请人：——

  公开号：US7314703B2

  公开（公告）日：2008-01-01