N-glycyl-thiovaline | 98428-57-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N-glycyl-thiovaline
• 英文别名: N-Glycyl=>thiovalin；N-Glycyl-thiovalin
• CAS: 98428-57-0
• 化学式: C₇H₁₄N₂O₂S
• 分子量: 190.266
• InChiKey: JKXQINORDFXWNM-UHFFFAOYSA-N

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 甲醇 、 乙醚 、 硫化氢 作用下， 生成 N-glycyl-thiovaline
  参考文献：
  名称：

  Synchrotron radiography and x-ray topography studies of hexagonal habitus SiC bulk crystals

  摘要：

  相敏同步辐射（SR）射线照相术与 X 射线衍射拓扑图相结合，研究了碳化硅晶体的结构缺陷。所研究的特定块状碳化硅晶体具有较低的微管密度和由棱柱面、金字塔面和基底面组成的发育良好的六边形习性。切片 (0001) 硅片的 X 射线衍射拓扑图像是由于与缺陷边界相关的复杂晶格畸变而形成的，它表明在 (0001) 平面的法线径向存在二维缺陷边界。特别是，那些平行于〈1120〉方向的缺陷边界离种子相当远。另一方面，通过相敏 SR 射线照相术，可以检测到微管聚集的影响。微管主要聚集在缺陷边界附近，但很少出现在群组之间。对形成这种特殊缺陷结构的可能原因进行了一些一般性评论。

  DOI：

  10.1557/jmr.2002.0391