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1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2-silacyclopent-4-en-2-ylidene | 1218783-55-1

中文名称
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中文别名
——
英文名称
1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2-silacyclopent-4-en-2-ylidene
英文别名
(2,6-dimethylphenyl)2C2H2N2Si
1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2-silacyclopent-4-en-2-ylidene化学式
CAS
1218783-55-1
化学式
C18H20N2Si
mdl
——
分子量
292.456
InChiKey
YJEZDJWRLRYQQA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.25
  • 重原子数:
    21.0
  • 可旋转键数:
    2.0
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.22
  • 拓扑面积:
    6.48
  • 氢给体数:
    0.0
  • 氢受体数:
    2.0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2-silacyclopent-4-en-2-ylidenetriethylphosphane selenide 作用下, 以 甲苯 为溶剂, 反应 16.0h, 以50%的产率得到di-μ-seleno-di-1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2-silacyclopent-4-en-2-ylidene
    参考文献:
    名称:
    N-芳基取代的N-杂环亚甲硅烷基的合成与反应性
    摘要:
    据报道,通过适当的硅(IV)杂环的金属还原,合成了两个N-芳基取代的2-硅酰胺基氮杂环丁烷9a,b。由N-芳基取代的N-杂环亚甲硅烷基(NHSi)获得的结构和光谱数据与先前由其N-烷基取代的对应物获得的结构和光谱数据非常接近。NHSis图9a,b被用来作为起始原料的一系列dichalcogenadisiletanes的合成19 - 24和用于单亚甲硅基钨络合物的29。反应性研究表明,N-芳基取代的NHSis 9a,b与先前描述的N-烷基取代的亚甲硅烷基之间仅存在少许差异。
    DOI:
    10.1016/j.jorganchem.2009.10.034
  • 作为产物:
    描述:
    1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2,2-dibromo-2-silacyclopent-4-enemagnesium 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 以80%的产率得到1,3-bis(2,6-dimethylphenyl)-1,3-diaza-2-silacyclopent-4-en-2-ylidene
    参考文献:
    名称:
    N-芳基取代的N-杂环亚甲硅烷基的合成与反应性
    摘要:
    据报道,通过适当的硅(IV)杂环的金属还原,合成了两个N-芳基取代的2-硅酰胺基氮杂环丁烷9a,b。由N-芳基取代的N-杂环亚甲硅烷基(NHSi)获得的结构和光谱数据与先前由其N-烷基取代的对应物获得的结构和光谱数据非常接近。NHSis图9a,b被用来作为起始原料的一系列dichalcogenadisiletanes的合成19 - 24和用于单亚甲硅基钨络合物的29。反应性研究表明,N-芳基取代的NHSis 9a,b与先前描述的N-烷基取代的亚甲硅烷基之间仅存在少许差异。
    DOI:
    10.1016/j.jorganchem.2009.10.034
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文献信息

  • Silaimidazolium and silaimidazolidinium ions
    作者:Annemarie Schäfer、André Schäfer、Thomas Müller
    DOI:10.1039/c0dt00313a
    日期:——
    acid–base adduct formation between N-heterocyclic silylenes and silyl arenium ions. They were isolated in high yields as their [B(C6F5)4]− salts. These salts are stable at room temperature and were characterized by NMR spectroscopy supported by the results of density functional computations of molecular structures and NMR chemical shifts. NICS calculations suggest for the imidazolium ions 7 only a modest
    2-咪唑鎓N杂环甲硅烷基和甲硅烷芳烃离子之间的路易斯酸碱加成反应合成了7号离子和2个咪唑啉鎓离子8号离子。以[B(C 6 F 5)4 ] -盐的形式高收率分离。这些盐在室温下稳定,并通过NMR光谱进行表征,并由分子结构的密度泛函计算和NMR化学位移的结果所支持。NICS计算表明,对于咪唑鎓离子7而言,其芳香度中等。尽管使用的取代基R 1和R 2庞大,甲硅烷基离子7和8表现为经典的路易斯对,并且没有显示出意外的反应性。
  • Reaction of Dihalodiboranes(4) with a N‐Heterocyclic Silylene: Facile Construction of 1‐Aryl‐2‐Silyl‐1,2‐Diboraindanes
    作者:Holger Braunschweig、Tobias Brückner、Andrea Deißenberger、Rian D. Dewhurst、Annika Gackstatter、Annalena Gärtner、Alexander Hofmann、Thomas Kupfer、Dominic Prieschl、Torsten Thiess、Sunewang Rixin Wang
    DOI:10.1002/chem.201702377
    日期:2017.7.18
    N‐heterocyclic silylene (NHSi) to generate NHSi adducts of 1‐aryl‐2‐silyl‐1,2‐diboraindanes, as was confirmed by X‐ray crystallography, featuring the functionalization of both B−X (X=halogen) bonds and a sp3‐ or sp2‐C−H bond under mild conditions. Coordination of a third NHSi to the proposed 1,1‐diaryl‐2,2‐disilyldiborane(4) intermediates, generated by a twofold B−X insertion, may be crucial for the C−H borylation
    X射线晶体学证实了二卤代硼烷(4)与N杂环甲硅烷基(NHSi)反应生成1-芳基-2-甲硅烷基1,2-二戊烷的NHSi加合物,其特征在于B-X均被官能化在温和条件下(X =卤素)键和sp 3-或sp 2 -CH键。第三次插入插入生成的第三个NHSi与拟议的1,1-二芳基-2,2-二甲硅烷基二硼烷(4)中间体的配位可能对导致最终产物的CH化至关重要。值得注意的是,我们的结果证明了第一个带有强B-F键的C-H化,该键由亚甲硅烷基插入激活。
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