diphenylstannanediyl bis(hexyl(methyl)carbamodithioate) | 1421671-37-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: diphenylstannanediyl bis(hexyl(methyl)carbamodithioate)
• CAS: 1421671-37-5
• 化学式: C₂₈H₄₂N₂S₄Sn
• 分子量: 653.629
• InChiKey: WVEWDTCHKGCMTP-UHFFFAOYSA-L

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.3
• 重原子数：
  35.0
• 可旋转键数：
  14.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  6.48
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  二硫化碳 、 N-己基甲胺 、 二苯基二氯化锡 在 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 2.0h， 以47%的产率得到diphenylstannanediyl bis(hexyl(methyl)carbamodithioate)
  参考文献：
  名称：

  有机锡二硫代氨基甲酸酯：通过气溶胶辅助化学气相沉积（AACVD）用于硫化锡薄膜的单源前体

  摘要：

  一系列的二硫代氨基甲酸盐[Sn（C 4 H 9）2（S 2 CN（RR'）2）2 ]（R，R'=乙基（1）； R =甲基，R'=丁基（2） ； R，R'=丁基（3）； R =甲基，R'=己基（4）；以及[Sn（C 6 H 5）2（S 2 CN（RR'）2）2 ]（R，R' ＝乙基（5）； R ＝甲基，R′＝丁基（6）； R，R′＝丁基（7）； R ＝甲基，R′＝己基（8））合成。的单晶X射线结构2，3，和8进行了测定。热重量分析（TGA）显示出对络合物单步分解1，3，及5 - 8，和双分解步的复合物2和4和325之间195℃℃。复杂1 – 4在400°C至530°C的温度下，它们用作通过气溶胶辅助化学气相沉积（AACVD）沉积SnS薄膜的单源前驱体。在所有沉积温度下，从所有四个络合物沉积正交晶SnS薄膜。膜的特征在于紫外可见光谱，粉末X射线衍射（p-XRD），拉曼光谱，扫描电子显微镜（SE

  DOI：

  10.1021/cm301660n