N-[(E)-2,2-dimethyl-6-trimethylsilylundec-4-enyl]toluene-4-sulfonamide | 395067-04-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-[(E)-2,2-dimethyl-6-trimethylsilylundec-4-enyl]toluene-4-sulfonamide
• 英文别名: N-[(E)-2,2-dimethyl-6-trimethylsilylundec-4-enyl]-4-methylbenzenesulfonamide
• CAS: 395067-04-6
• 化学式: C₂₃H₄₁NO₂SSi
• 分子量: 423.736
• InChiKey: FYGDTJVMPRBUAZ-ACCUITESSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.53
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.65
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-[(E)-2,2-dimethyl-6-trimethylsilylundec-4-enyl]toluene-4-sulfonamide 在 lithium tetrachloropalladate copper dichloride 作用下， 以 叔丁醇 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 (Z)-2-(hept-1'-enyl)-4,4-dimethyl-1-(toluene-4-sulfonyl)pyrrolidine 、 (E)-2-(hept-1'-enyl)-4,4-dimethyl-1-(toluene-4-sulfonyl)pyrrolidine
  参考文献：
  名称：

  钯催化的甲硅烷基亲核取代的烯丙基硅烷环化。

  摘要：

  含有羟基或甲苯磺酰胺基的烯丙基硅烷经过钯（II）催化环化，得到四氢呋喃，哌啶和吡咯烷的衍生物。该催化反应通过烯丙基硅烷前体的甲硅烷基的烯丙基置换产生的（η3-烯丙基）钯中间体进行。对（eta3-烯丙基）钯中间体的内部亲核攻击以高的化学和区域选择性进行。苯醌和氯化铜（II）可用于再生钯（II）催化剂前体。机理研究表明，氯化铜（II）再氧化剂还激活（eta3-烯丙基）钯中间体向亲核进攻。对（η3-烯丙基）钯中间体形成的动力学研究表明，反应速率高度依赖于氯化物配体和溶剂的浓度。通过密度泛函理论（DFT）计算研究了钯金属甲硅烷基化过程关键中间体的结构和反应活性，表明亲电钯（II）催化剂前体与烯丙基硅烷的配位导致相对较弱的β-硅效应。DFT研究还表明，碳-硅键的裂解是通过氯离子与硅原子的配位而发生的。结果表明，亲电钯（II）催化剂前体与烯丙基硅烷的配位导致相对较弱的β-硅效应。DFT研究还表明，碳-

  DOI：

  10.1002/1521-3765(20011001)7:19<4097::aid-chem4097>3.0.co;2-8
• 作为产物：
  描述：

  (E)-2,2-dimethyl-6-(trimethylsilanyl)undec-4-enal 在 lithium aluminium tetrahydride 、 盐酸羟胺 、 sodium acetate 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醇 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 N-[(E)-2,2-dimethyl-6-trimethylsilylundec-4-enyl]toluene-4-sulfonamide
  参考文献：
  名称：

  钯催化的甲硅烷基亲核取代的烯丙基硅烷环化。

  摘要：

  含有羟基或甲苯磺酰胺基的烯丙基硅烷经过钯（II）催化环化，得到四氢呋喃，哌啶和吡咯烷的衍生物。该催化反应通过烯丙基硅烷前体的甲硅烷基的烯丙基置换产生的（η3-烯丙基）钯中间体进行。对（eta3-烯丙基）钯中间体的内部亲核攻击以高的化学和区域选择性进行。苯醌和氯化铜（II）可用于再生钯（II）催化剂前体。机理研究表明，氯化铜（II）再氧化剂还激活（eta3-烯丙基）钯中间体向亲核进攻。对（η3-烯丙基）钯中间体形成的动力学研究表明，反应速率高度依赖于氯化物配体和溶剂的浓度。通过密度泛函理论（DFT）计算研究了钯金属甲硅烷基化过程关键中间体的结构和反应活性，表明亲电钯（II）催化剂前体与烯丙基硅烷的配位导致相对较弱的β-硅效应。DFT研究还表明，碳-硅键的裂解是通过氯离子与硅原子的配位而发生的。结果表明，亲电钯（II）催化剂前体与烯丙基硅烷的配位导致相对较弱的β-硅效应。DFT研究还表明，碳-

  DOI：

  10.1002/1521-3765(20011001)7:19<4097::aid-chem4097>3.0.co;2-8