cis-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid | 92761-25-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: cis-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid
• 英文别名: cis-1,2-diaminocyclohexane-N,N,N′,N′-tetraacetic acid；CHDTA；c-cdta；1,2-trans-cyclohexane-diaminetetraacetic acid；cis-1,2-Diaminocyclohexane-n,n,n',n'-tetraaceticacid；2-[[(1R,2S)-2-[bis(carboxymethyl)amino]cyclohexyl]-(carboxymethyl)amino]acetic acid
• CAS: 92761-25-6
• 化学式: C₁₄H₂₂N₂O₈
• 分子量: 346.337
• InChiKey: FCKYPQBAHLOOJQ-AOOOYVTPSA-N

物化性质

• 沸点：
  670.8±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.48±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.5
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  156
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  邻苯二胺 、 cis-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid 生成 (1R,2S)-1-N,1-N,2-N,2-N-tetrakis(1H-benzimidazol-2-ylmethyl)cyclohexane-1,2-diamine
  参考文献：
  名称：

  LIAO, ZHANRU;SHI, JUEN, XUACHZHUN SHIFAN DASYUEH SYUEHBAO, 23,(1989) N, S. 201-205

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  ethyl 2-[[(1R,2S)-2-[bis(2-ethoxy-2-oxoethyl)amino]cyclohexyl]-(2-ethoxy-2-oxoethyl)amino]acetate 在 sodium hydroxide 、 盐酸 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 24.0h， 以39%的产率得到cis-1,2-cyclohexanediaminetetraacetic acid
  参考文献：
  名称：

  Mn（II）-顺式和反式1,2-二氨基环己烷-N，N，N'，N'-四乙酸酯复合物的异构体之间存在显着差异

  摘要：

  [M（II）（c-cdta）] 2-配合物（c-cdta = cis-1,2 -二氨基环己烷-N，N，N'，N'-四乙酸，M（II）= Mn（II），Zn（II），Cu（II），Ca（II），Mg（II））和将化学数据与具有反式1,2-cdta（t-cdta）的异构体复合物进行比较，目的是寻找合适的Mn（II）配位体配体，以寻找安全的MRI造影剂。在所施加的条件下（I = 0.15 M NaCl和25°C），c-cdta配体的总碱度（Σlog KiH）看起来与反式衍生物非常相似，但是前两个质子化常数明显不同。log K1H高出1.5 log单位，而log K2H高出对数导数所确定的log 0.8单位。配体的相似碱性导致相似的复杂稳定性（log K [Mn（L）]值为14.19（2）和14.32），而接近生理pH的条件稳定性则不同（pMn值为7.82和8.68）。 Mn（c-cdta）] 2-和[Mn（t-cdta）]

  DOI：

  10.1016/j.ica.2017.07.071

文献信息

• STABILIZATION OF HYDROXYLAMINE CONTAINING SOLUTIONS AND METHOD FOR THEIR PREPARATION
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090112024A1

  公开（公告）日：2009-04-30

  The invention relates to the use of amidoximes for prevention of or stabilization of hydroxylamine compounds against undesired decomposition.

  本发明涉及将酰胺肟用于预防或稳定羟基胺化合物，防止其不受控分解。
• Coating composition for thermal transfer image-receiving sheet, and thermal transfer image-receiving sheet
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP1974951A1

  公开（公告）日：2008-10-01

  A thermal, transfer image-receiving sheet comprising, on a support, at least one image-receiving layer comprising a polymer latex having a polysiloxane structure of the following formula [1] in the side chain: wherein R1 and R2 represents hydrogen, alkyl or aryl; n is 1 to 500.

  一种热转印图像接收片材，包括至少一个图像接收层，该层位于支撑物上，由聚合物胶乳组成，聚合物胶乳的侧链具有下式[1]的聚硅氧烷结构： 其中R1和R2代表氢、烷基或芳基；n为1至500。
• ALGINATE IMPRESSION MATERIAL FOR DENTAL USE
  申请人：GC Corporation

  公开号：EP3434253A1

  公开（公告）日：2019-01-30

  According to an aspect of the present invention, a dental alginate impression material includes an alginate, calcium sulfate, and an aminocarboxylic acid compound.

  根据本发明的一个方面，牙科藻酸盐印模材料包括藻酸盐、硫酸钙和氨基羧酸化合物。
• Dental alginate impression material
  申请人：GC Corporation

  公开号：US10744071B2

  公开（公告）日：2020-08-18

  According to an aspect of the present invention, a dental alginate impression material includes an alginate, calcium sulfate, and an aminocarboxylic acid compound.

  根据本发明的一个方面，牙科藻酸盐印模材料包括藻酸盐、硫酸钙和氨基羧酸化合物。
• Stabilized alkaline compositions for cleaning microlelectronic substrates
  申请人：——

  公开号：US20020077259A1

  公开（公告）日：2002-06-20

  The invention provides aqueous alkaline compositions useful in the microelectronics industry for stripping or cleaning semiconductor wafer substrates by removing photoresist residues and other unwanted contaminants. The compositions typically contain (a) one or more metal ion-free bases at sufficient amounts to produce a pH of about 10-13 and one or more bath stabilizing agents having at least one pKa in the range of 10-13 to maintain this pH during use; (b) optionally, about 0.01 % to about 5% by weight (expressed as % SiO 2 ) of a water-soluble metal ion-free silicate; (c) optionally, about 0.01% to about 10% by weight of one or more chelating agents; (d) optionally, about 0.01% to about 80% by weight of one or more water-soluble organic co-solvents; and (e) optionally, about 0.01% to about 1% by weight of a water-soluble surfactant.

  本发明提供了在微电子工业中用于剥离或清洗半导体晶片基片的碱性水溶液组合物，可去除光阻残留物和其他不需要的污染物。这些组合物通常含有：(a) 一种或多种不含金属离子的碱，其用量足以产生约 10-13 的 pH 值，以及一种或多种水浴稳定剂，其至少有一种 pKa 在 10-13 范围内，以便在使用过程中保持该 pH 值；(b) 可选地，按重量计约 0.01%至约 5%（以% SiO 2 (c) 可选地，按重量计约 0.01%至约 10%的一种或多种螯合剂； (d) 可选地，按重量计约 0.01%至约 80%的一种或多种水溶性有机助溶剂；以及 (e) 可选地，按重量计约 0.01%至约 1%的水溶性表面活性剂。