cis-PtMe(SiPh3)(PMe2Ph)2 | 173281-31-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: cis-PtMe(SiPh3)(PMe2Ph)2
• CAS: 173281-31-7
• 化学式: C₃₅H₄₀P₂PtSi
• 分子量: 745.816
• InChiKey: BPLQXBQQLWDAJH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  None
• 重原子数：
  None
• 可旋转键数：
  None
• 环数：
  None
• sp3杂化的碳原子比例：
  None
• 拓扑面积：
  None
• 氢给体数：
  None
• 氢受体数：
  None

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  cis-PtMe(SiPh3)(PMe2Ph)2 在 一氧化碳 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以48%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  顺式-炔基（甲硅烷基）铂（II）配合物的制备及C-Si还原消除行为

  摘要：

  一系列的顺式-炔基（甲硅烷基）铂（II）络合物，顺式-Pt（C⋮CAR）（SIAR” 3）（PME 2 PH）2（2：Ar为PH，4-MeOC 6 H ^ 4，4-的MeC 6 ħ 4，4-CLC 6 ħ 4，4- BRC 6 ħ 4，4-NCC 6 ħ 4 ;中，Ar” =苯基，4- MeOC 6 ħ 4，4-MEC 6 ħ 4，4-CF 3 ç 6高4），已经制备，并检查了它们在溶液中的热分解反应。配合物2顺利经历苯C-硅还原消除d 6在约35℃下，得到相应的铂配位silylacetylenes（0）络合物，Pt（ARC⋮CSiAr” 3）（PME 2 PH）2（3）。动力学检查表明协同反应过程可直接从四坐标复合体开始操作。Ar和Ar'基团上的供电子基更多的取代基可提供更高的还原消除速率。

  DOI：

  10.1021/om0302701
• 作为产物：
  描述：

  trans-chloro(triphenylsilyl)bis(dimethylphenylphosphine)platinum(II) 、 甲基锂 在 MeOH 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 为溶剂， 以81%的产率得到cis-PtMe(SiPh3)(PMe2Ph)2
  参考文献：
  名称：

  的反应顺式-和反式-甲硅烷基（甲基）铂（II）配合物的苯乙炔。顺式和反式构型对反应性的显着影响

  摘要：

  甲硅烷基（甲基）铂配合物的顺式和反式-PtMe（SiPh 3）L 2（L = PMe 2 Ph，PMePh 2）的两个几何异构体表现出完全不同的对苯乙炔的反应性。的反应顺-PtMe（SIPH 3）L- 2（L = PME 2 Ph（上1A），PMePh 2（图1b）），与苯乙炔在室温下于苯容易进行，得到乙炔插入产品顺-PtMe {C（PH ）CH（SiPh 3）} L 2（L = PMe 2 Ph（3a），PMePh 2（3b）。相反，反式-PtMe（SiPh 3）L 2络合物（L = PMe 2 Ph（2a），PMePh 2（2b））对乙炔插入完全无效。所述顺式-organo（甲硅烷基）铂络合物的顺-PtMe（SIPH 3）（PME 3）（PMePh 2）（1C）和顺式-Pt（COET）（SIPH 3）（PME 2 PH）2（6D）还对Pt-SiPh 3键插入了苯乙炔以提供定量的顺式-PtMe

  DOI：

  10.1021/om960506j

文献信息

• Kinetic Studies on the Reductive Elimination of <i>cis</i>-PtMe(SiPh₃)(PMe₂Ph)₂ and <i>cis</i>-PtMe(GePh₃)(PMe₂Ph)₂. The First Comparison between C−Si and C−Ge Reductive Elimination
  作者：Fumiyuki Ozawa、Toshihiko Hikida、Koh Hasebe、Takuya Mori

  DOI：10.1021/om970841n

  日期：1998.3.1

  of the SiPh3 ligand and only slightly higher than that of the Me ligand, the GePh3 ligand was found to possess a much higher trans effect than the methyl ligand, comparable to the SiPh3 ligand. Thermolysis of 1b and 2b in toluene-d8 in the presence of an excess amount of diphenylacetylene provided quantitative yields of reductive-elimination products MeSiPh3 and MeGePh3, respectively. Kinetic studies

  新型复合物顺式-PtMe（GePh 3）（PMe 2 Ph）2（2b）的制备方法是：先用2当量的MeLi在THF中处理反式-PtCl（GePh 3）（PMe 2 Ph）2（3），然后反应体系的甲醇分解。2b的X射线和NMR数据，以及相关的cis -PtMe（SiPh 3）（PMe 2 Ph）2（1b）和cis -PtMe 2（PMe 2 Ph）2（4）的NMR数据），表示的反式影响顺序如下：SIPH 3 »GePh 3 >我。虽然GePh的反影响3配体多比SIPH的降低3配体和仅比我配体，所述GePh稍高3配体被发现具有比甲基配体高得多的反式作用，可比SiPh 3配体。热解的图1b和2b中在甲苯d 8中的二苯基乙炔过量的存在提供的还原消除产品定量的产率MeSiPh 3和MeGePh 3， 分别。动力学研究表明，甲基-锗烷基复合物2b比甲基-甲硅烷基复合物1b稳定得多。两种络合物的还原消除是
• Mechanistic Study on the Insertion of Phenylacetylene into <i>cis</i>-Bis(silyl)platinum(II) Complexes
  作者：Fumiyuki Ozawa、Jun Kamite

  DOI：10.1021/om980610w

  日期：1998.12.1

  Four bis(silyl)platinum complexes cis-Pt(SiR3)(2)(PMe2Ph)(2) (SiR3 = SiMe2Ph (la), SiMePh2 (Ib), SiPh3 (Ic), SiFPh2 (Id)) have been prepared and their reactions with alkynes and alkenes examined. The X-ray structures of 1a-c exhibit significant distortion from the square planar geometry in the order Ib > Ic > la. Complexes 1a-d react with phenylacetylene in solution to give the corresponding insertion complexes cis-PtC(Ph)=CH(SiR3)}(SiR3)(PMe2Ph)(2) (2a-d). Complex Ic reacts also with acetylene to afford the insertion complex cis-Pt(CH=CHSiPh3)(SiPh3)(PMe2Ph)(2) (2e), whose structure has been determined by X-ray diffraction study. Kinetic studies indicate the insertion process involving prior dissociation of PMe2Ph ligand from 1, followed by insertion of phenylacetylene into the Pt-SiR3 bond. The reactivity toward insertion decreases in the order Ic > la > Ib much greater than Id. Factors responsible for the reactivity order are discussed on the basis of kinetic data and X-ray structures.