salicylic acid ; tetramethylammonium salt | 68494-18-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: salicylic acid ; tetramethylammonium salt
• 英文别名: Salicylsaeure; Tetramethylammonium-Salz；tetramethylammonium salicylate；2-carboxyphenolate;tetramethylazanium
• CAS: 68494-18-8
• 化学式: C₄H₁₂N*C₇H₅O₃
• 分子量: 211.261
• InChiKey: LVKNZRPSERBSFR-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.78
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  60.4
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  、 salicylic acid ; tetramethylammonium salt 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以5.9 g的产率得到
  参考文献：
  名称：

  JP2023/32149

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  、 、 甲醇 、 四甲基氢氧化铵五水合物 、 、 甲苯 在 氮 作用下， 反应 1.0h， 生成 salicylic acid ; tetramethylammonium salt
  参考文献：
  名称：

  ASHLESS OR REDUCED ASH QUATERNARY DETERGENTS

  摘要：

  这是一种由油溶性离子性清洁剂组成的混合物，不会向混合物中贡献金属离子，其中包括一个四元非金属氮族阳离子和一个有至少一个足够长的碳氢基团以使清洁剂具有油溶性的有机阴离子。该清洁剂的总碱值（TBN）与总酸值（TAN）比至少为2:1，为润滑剂组成物提供无灰碱度。

  公开号：

  US20140249059A1

文献信息

• Process for the preparation of carboxylic benzyl esters
  申请人：——

  公开号：US20030233008A1

  公开（公告）日：2003-12-18

  Carboxylic benzyl esters can be prepared by reacting benzyl chloride with carboxylic acids in the presence of one or more quaternary ammonium carboxylates as catalyst.

  羧基苄酯可以通过在一个或多个季铵羧酸盐存在的催化剂下，将苄基氯与羧酸反应制备而成。
• PHOTOACID-GENERATING COMPOUND AND ASSOCIATED POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING A PHOTORESIST RELIEF IMAGE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180095363A1

  公开（公告）日：2018-04-05

  A photoacid-generating compound has the structure wherein m, n, R 1 , R 2 , X, Y, and Z − are defined herein. The photoacid-generating compound exhibits strong absorption and chemical sensitivity to extreme ultraviolet radiation, while also absorbing longer wavelengths with desirably reduced chemical sensitivity. Also described are a polymer incorporating the residue of a polymerizable version of the photoacid-generating compound, a photoresist composition that includes the photoacid-generating compound, the polymer, or a combination thereof, and a method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition.

  一种光酸生成化合物具有结构，其中m、n、R1、R2、X、Y和Z−在此处定义。该光酸生成化合物对极紫外辐射具有强吸收和化学敏感性，同时还吸收较长波长并具有较低的化学敏感性。还描述了一种聚合物，其中包含可聚合版本的光酸生成化合物的残留物，一种包含该光酸生成化合物、聚合物或两者组合的光阻剂组合物，以及使用该光阻剂组合物形成光阻剂
• PHOTOACID GENERATING MONOMER AND PRECURSOR THEREOF
  申请人：Coley Suzanne M.

  公开号：US20120172555A1

  公开（公告）日：2012-07-05

  A monomer compound has the formula (I): where each R 1 , R 2 , and R 3 is independently H, F, C 1-10 alkyl, fluoro-substituted C 1-10 alkyl, C 1-10 cycloalkyl, or fluoro-substituted C 1-10 cycloalkyl, provided that at least one of R 1 , R 2 , or R 3 is F; n is an integer of from 1 to 10, A is a halogenated or non-halogenated C 2-30 olefin-containing polymerizable group, and G + is an organic or inorganic cation. The monomer is the reaction product of a sultone precursor and the oxyanion of a hydroxy-containing halogenated or non-halogenated C 2-30 olefin-containing compound. A polymer includes the monomer of formula (I).

  一种单体化合物具有以下化学式（I）：其中每个R1、R2和R3独立地是H、F、C1-10烷基、氟代C1-10烷基、C1-10环烷基或氟代C1-10环烷基，前提是R1、R2或R3中至少有一个是F；n是1到10之间的整数，A是卤代或非卤代的C2-30烯烃含有聚合基团，G+是有机或无机阳离子。该单体是砜前体和含有羟基的卤代或非卤代C2-30烯烃含有化合物的氧负离子的反应产物。聚合物包括化学式（I）的单体。
• Verfahren zur Herstellung von Carbonsäurebenzylestern
  申请人：Bayer Aktiengesellschaft

  公开号：EP1371627A1

  公开（公告）日：2003-12-17

  Carbonsäurebenzylester können durch Umsetzung von Benzylchlorid mit Carbonsäuren in Gegenwart eines oder mehrerer quartären Ammoniumcarboxylate als Katalysator hergestellt werden.

  Carbonsäure苯甲酯可以通过在一个或多个季铵羧酸盐存在下，将苯甲酰氯与羧酸反应制备而成。
• CALIXARENE COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130157195A1

  公开（公告）日：2013-06-20

  A molecular glass compound includes (A) a tetrameric reaction product of a specific aromatic compound having at least one hydroxy group, and a specific polycyclic or fused polycyclic aromatic aldehyde; and (B) an acid-removable protecting group as an adduct with the hydroxy group of the aromatic compound and/or a hydroxy group of the polycyclic or fused polycyclic aromatic aldehyde. A photoresist composition including the molecular glass compound, and a coated substrate including a layer of the photoresist composition are also disclosed.

  一种分子玻璃化合物，包括(A)一种特定芳香化合物的四聚反应产物，该芳香化合物至少具有一个羟基，以及一种特定的多环或融合多环芳香醛；和(B)一种酸可移除的保护基，作为与芳香化合物的羟基和/或多环或融合多环芳香醛的羟基的加合物。还公开了一种包括该分子玻璃化合物的光刻胶组合物，以及包括光刻胶组合物层的涂覆基板。