p-Trifluormethylphenoxy-carbonylfluorid | 2286-43-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: p-Trifluormethylphenoxy-carbonylfluorid
• 英文别名: (4-Trifluormethylphenyl)-fluorformiat；Carbonofluoridic acid, 4-(trifluoromethyl)phenyl ester；[4-(trifluoromethyl)phenyl] carbonofluoridate
• CAS: 2286-43-3
• 化学式: C₈H₄F₄O₂
• 分子量: 208.112
• InChiKey: MOZMNRLVKQNXPR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  p-Trifluormethylphenoxy-carbonylfluorid 、 二乙胺 在 三乙胺 作用下， 以 xylene 为溶剂， 生成 4-(trifluoromethyl)phenyl diethylcarbamate
  参考文献：
  名称：

  DE2016625

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  Trimethylsilyl 4-(trifluoromethyl)benzoate 在 二氟代氙 作用下， 以 various solvent(s) 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 p-Trifluormethylphenoxy-carbonylfluorid 、 4-(三氟甲基)苯甲酰氟
  参考文献：
  名称：

  Rearrangement and radical mediated decarboxylation of trimethylsilyl benzoates using xenon difluoride

  摘要：

  在 CH2Cl2 或 C6F6 溶液中用二氟化氙处理三甲基硅基苯甲酸酯 1，会产生一种新的酯重排反应，并形成芳基氟甲酸酯 2：在 MeCN 溶液中观察不到重排反应，在该溶液中，主要产物是通过相应芳基形成的炔。

  DOI：

  10.1039/p19960000121

文献信息

• PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20110091808A1

  公开（公告）日：2011-04-21

  The present invention provides a photoresist composition comprising a compound capable of generating an acid and a base by irradiation, a resin having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, and an acid generator.
• Rearrangement and radical mediated decarboxylation of trimethylsilyl benzoates using xenon difluoride
  作者：Pakawan Nongkunsarn、Christopher A. Ramsden

  DOI：10.1039/p19960000121

  日期：——

  Treatment of trimethylsilyl benzoates 1 with xenon difluoride in CH2Cl2 or C6F6 results in a novel ester rearrangement and formation of aryl fluoroformates 2: rearrangement is not observed in MeCN solution in which the main products are arenes formed via the corresponding aryl radical.

  在 CH2Cl2 或 C6F6 溶液中用二氟化氙处理三甲基硅基苯甲酸酯 1，会产生一种新的酯重排反应，并形成芳基氟甲酸酯 2：在 MeCN 溶液中观察不到重排反应，在该溶液中，主要产物是通过相应芳基形成的炔。
• DE2016625
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——