4-Ethoxy-4-methylbutanoic acid | 121519-72-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 4-Ethoxy-4-methylbutanoic acid
• 英文别名: 4-Ethoxypentanoic acid
• CAS: 121519-72-0
• 化学式: C₇H₁₄O₃
• 分子量: 146.186
• InChiKey: JCXYONVULBEKRJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Ethoxy-4-methylbutanoic acid 在 硫酸 、 双氧水 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 96.0h， 生成 4-Ethoxypentaneperoxoic acid
  参考文献：
  名称：

  Composition for Sterilization Comprising W-Alkoxyperoxycarboxylic Acid

  摘要：

  通用公式（I）表示的过氧羧酸： （其中R1表示取代或未取代的C1-C10烷基或取代或未取代的C6-C10芳基，L表示取代或未取代的C2-C12双价连接基，或R1和L可以结合形成环）以及包含所述过氧羧酸的组合物。所述过氧羧酸可以在短时间内对医疗器械如内窥镜进行灭菌，并且没有令人不愉快的气味。

  公开号：

  US20080009549A1

文献信息

• [EN] THIOLATED PACLITAXELS FOR REACTION WITH GOLD NANOPARTICLES AS DRUG DELIVERY AGENTS<br/>[FR] PACLITAXELS THIOLÉS DESTINÉS À RÉAGIR AVEC DES NANOPARTICULES D'OR, SERVANT D'AGENTS DE DISTRIBUTION DE MÉDICAMENTS
  申请人：VIRGINIA TECH INTELL PROP

  公开号：WO2009062138A1

  公开（公告）日：2009-05-14

  Thioloated taxane derivatives are linked to colloidal metal particles such as gold nanoparticles for use as antitumor agents. The antitumor agents may be targeted to tumors.

  硫代納二烯衍生物与金纳米粒子等胶体金属颗粒相结合，用作抗肿瘤药剂。这些抗肿瘤药剂可以针对肿瘤。
• Novel Pyridone Dyes
  申请人：CLARIANT INTERNATIONAL LTD.

  公开号：US20170015829A1

  公开（公告）日：2017-01-19

  The invention relates to compounds of the formula (I): in which R 0 is C 1 -C 6 -alkyl or CF 3 ; R 1 is sulfo, carboxyl, C 1 -C 4 -alkylenesulfo, C 1 -C 4 -alkylenecarboxy, CONH 2 , CONH(C 1 -C 4 -alkyl) or CN, R 2 is C 1 -C 18 -alkyl, C 2 -C 18 -alkenyl, hydroxy-C 1 -C 18 -alkyl, or —(C 1 -C 6 -alkylene-O—) m —R where R is defined as H, C 1 -C 16 -alkyl or hydroxy-C 1 -C 16 -alkyl and m is a number from 1 to 20, R 3 is H, sulfo, carboxyl, C 1 -C 6 -alkyl or C 1 -C 6 -alkoxy, R 4 is H, C 1 -C 6 -alkyl or C 1 -C 6 -alkoxy, R 5 is OH, OM, C 1 -C 6 -alkyl, unsubstituted C 6 -C 10 -aryl or C 1 -C 6 -alkyl-, halogen-(e.g. F, Cl, Br), carboxyl- or sulfo-substituted where the compounds of the formula (I) contain at least one anionic radical from the group of sulfo and carboxyl having the countercation M + , where M + is an alkali metal cation or an organic cation. The compounds of the formula (I) are especially suitable for use in color filters.

  本发明涉及以下式(I)的化合物： 其中， R0是C1-C6烷基或CF3; R1是磺酰基、羧基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基羧基、CONH2、CONH(C1-C4烷基)或CN; R2是C1-C18烷基、C2-C18烯基、羟基-C1-C18烷基，或-(C1-C6烷基-O-)m-R，其中R定义为H、C1-C16烷基或羟基-C1-C16烷基，m是1到20的数字; R3是H、磺酰基、羧基、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基; R4是H、C1-C6烷基或C1-C6烷氧基; R5是OH、OM、C1-C6烷基、未取代的C6-C10芳基或C1-C6烷基、卤素-(例如F、Cl、Br)、羧基或磺酰基取代的; 其中，式(I)的化合物至少包含来自磺酸和羧酸阴离子群中的一个带有计数阳离子M+的负离子基团，其中M+是碱金属阳离子或有机阳离子。 式(I)的化合物特别适用于用于彩色滤光片。
• Chemically amplified resist and a resist composition
  申请人：——

  公开号：US20030181629A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  The present invention relates to a polymer for a chemically amplified resist and a resist composition using the same. The present invention provides a polymer represented by the Formula (1) and a chemically resist composition for deep ultraviolet light comprising the same. The chemically amplified resist composition comprising the polymer represented by the formula (1) of the present invention responds to mono wavelength in a micro-lithography process and can embody a micro-pattern of high resolution on a substrate. 1

  本发明涉及一种用于化学放大光刻胶的聚合物及使用该聚合物的光刻胶组合物。本发明提供了一种由式（1）表示的聚合物，并且还提供了一种深紫外光化学放大光刻胶组合物，该光刻胶组合物包括该聚合物。本发明所述的由式（1）表示的聚合物的化学放大光刻胶组合物在微影工艺中对单色波长做出响应，能够在基板上实现高分辨率的微型图案。
• Verfahren zur Herstellung von Polyisocyanaten mit Biuretstruktur
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0150769A2

  公开（公告）日：1985-08-07

  Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Polyisocyanaten mit Biuretstruktur, indem man aliphatische Diisocyanate im Überschuss mit α,α,α-tri-substituierten Essigsäuren bei erhöhten Temperaturen, gegebenenfalls zusammen mit Wasser sowie gegebenenfalls in Gegenwart eines mit Wasser mischbaren Lösungsmittels gegebenenfalls unter Überdruck umsetzt, anschliessend gegebenenfalls vorhandenes Lösungsmittel, das aus der Monocarbonsäure gebildete Anhydrid und überschüssiges Diisocyanat durch fraktionierte Extraktion und/ oder durch Dünnschichtverdampfung entfernt.

  本发明涉及一种制备具有缩二脲结构的多异氰酸酯的工艺，其方法是在高温下，任选与水一起，任选在有水混溶溶剂存在的情况下，任选在超压下，使过量的脂肪族二异氰酸酯与α,α,α-三取代乙酸反应，然后通过分馏萃取和/或薄膜蒸发除去存在的任何溶剂、从单羧酸和过量二异氰酸酯中生成的酸酐。
• Hochauflösender negativ arbeitender Photoresist mit grossem Prozessspielraum
  申请人：OCG Microelectronic Materials AG

  公开号：EP0599779A1

  公开（公告）日：1994-06-01

  Es wird ein chemisch verstärkter, wässerig-alkalisch entwickelbarer Negativ-Photoresist beschrieben, der einen strahlungsempfindlichen Säuregenerator und eine Verbindung, die unter dem Einfluss von Säure die Löslichkeit des Resists in wässerig-alkalischen Lösungen herabsetzt, sowie eine Polyhydroxylverbindung der Formel I enthält worin n eine ganze Zahl zwischen 2 und 6 und R Wasserstoff, Halogen, C₁-C₄-Alkoxy oder C₁-C₄-Alkyl bedeuten sowie Z einen n-wertigen, unsubstituierten oder einen oder mehrere Substituenten aus der Gruppe Hydroxyl-, Halogen- und C₁-C₄-Alkoxy-Substituenten aufweisenden Rest darstellt, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus: a) aliphatischen Resten mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, b) cycloaliphatischen Resten mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, c) aromatischen Resten mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen und d) Resten mit 7 bis 30 Kohlenstoffatomen, die aus mindestens zwei verschiedenen Strukturelementen zusammengesetzt sind, ausgewählt aus aliphatischen, cycloaliphatischen oder aromatischen Gruppen. Die beschriebenen Resists ermöglichen es, die Anforderungen an die Genauigkeit der Fokussierung bei der bildmässigen Belichtung herabzusetzen.

  描述了一种化学放大的、可在碱性水溶液中显影的阴性光刻胶，它含有一种辐射敏感酸发生器和一种化合物，在酸的作用下，该化合物可降低光刻胶在碱性水溶液中的溶解度，还含有一种式 I 的多羟基化合物。 其中 n 是 2 到 6 之间的整数，R 是氢、卤素、C₁-C₄-烷氧基或 C₁-C₄-烷基，Z 是一个 n 价、未取代的取代基，或一个或多个来自羟基、卤素和 C₁-C₄-烷基组成的取代基。 C₁-C₄ 烷氧基取代基，选自由以下组成的组 (a) 具有 1 至 12 个碳原子的脂肪族基、 b) 具有 5 至 20 个碳原子的环脂族基、 c) 具有 6 至 20 个碳原子的芳香族基 d) 具有 7 至 30 个碳原子的残基，这些残基由至少两个不同的结构元素组成，这些元素选自脂肪族、环脂族或芳香族基团。所述的抗蚀剂可以降低图像曝光的聚焦精度要求。