Cy2PCH2NHtBu | 1234313-14-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机磷化合物 - 有机膦及其衍生物
• 英文名称: Cy2PCH2NHtBu
• 英文别名: N-(dicyclohexylphosphanylmethyl)-2-methylpropan-2-amine
• CAS: 1234313-14-4
• 化学式: C₁₇H₃₄NP
• 分子量: 283.437
• InChiKey: IMVCVOUQDHRQNC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  12
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Cy2PCH2NHtBu 在 1,2,3,4,5,6,7,8-八硫杂环辛烷 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 0.5h， 以97%的产率得到Cy2P(S)CH2NHtBu
  参考文献：
  名称：

  Phosphine- and thiophosphorane-amine ligands: Lithiation and coordination to Rh(I)

  摘要：

  A series of phosphine-amine and thiophosphorane-amine ligands (PR2(X)CH2NHR', X = lone pair, S, R = Ph, Cy, R' = tBu, Ph) differing by the nature of the phosphorus and nitrogen substituents were synthesized. Their lithiation, in order to generate the corresponding amido ligand mainly led to dissociation with formation of phosphide or thiophosphinite anion and imine. DFT calculations confirmed that this pathway is in most cases thermodynamically favoured. But for a phosphine-amido anion featuring alkyl substituents on the P atom and phenyl on the nitrogen, calculations showed that the dissociation is strongly disfavoured (Delta G = +24.3 kcal mol(-1)). Actually, {PCy2CH2NPhLi} was isolated in high yield and fully characterized. This phosphine-amido ligand and the corresponding amine derivative were then coordinated to Rh(I) metal centre. (C) 2010 Elsevier B.V. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.jorganchem.2010.03.006
• 作为产物：
  描述：

  叔丁胺 、 Hydroxymethyl-dicyclohexyl-phosphin 以 二氯甲烷 为溶剂， 以96%的产率得到Cy2PCH2NHtBu
  参考文献：
  名称：

  Phosphine- and thiophosphorane-amine ligands: Lithiation and coordination to Rh(I)

  摘要：

  A series of phosphine-amine and thiophosphorane-amine ligands (PR2(X)CH2NHR', X = lone pair, S, R = Ph, Cy, R' = tBu, Ph) differing by the nature of the phosphorus and nitrogen substituents were synthesized. Their lithiation, in order to generate the corresponding amido ligand mainly led to dissociation with formation of phosphide or thiophosphinite anion and imine. DFT calculations confirmed that this pathway is in most cases thermodynamically favoured. But for a phosphine-amido anion featuring alkyl substituents on the P atom and phenyl on the nitrogen, calculations showed that the dissociation is strongly disfavoured (Delta G = +24.3 kcal mol(-1)). Actually, {PCy2CH2NPhLi} was isolated in high yield and fully characterized. This phosphine-amido ligand and the corresponding amine derivative were then coordinated to Rh(I) metal centre. (C) 2010 Elsevier B.V. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.jorganchem.2010.03.006

文献信息

• [DE] KATALYSATORSYSTEME FÜR DIE HERSTELLUNG VON COPOLYMERISATEN AUS KOHLENMONOXID UND OLEFINISCH UNGESÄTTIGTEN VERBINDUNGEN<br/>[EN] CATALYST SYSTEMS FOR PRODUCING COPOLYMERS OF CARBON MONOXIDE AND OLEFINICALLY UNSATURATED COMPOUNDS<br/>[FR] SYSTEMES CATALYSEURS UTILES POUR PRODUIRE DES COPOLYMERES DE MONOXYDE DE CARBONE ET DE COMPOSES OLEFINIQUEMENT INSATURES
  申请人：BASF AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：WO1998025991A1

  公开（公告）日：1998-06-18

  (DE) Katalysatorsysteme, enthaltend als aktive Bestandteile a) einen Metallkomplex der allgemeinen Formel (I), b) eine oder mehrere Lewis- oder Protonensäuren oder ein Gemisch von Lewis- und Protonensäuren.(EN) Catalyst systems contain as active components (a) a metal complex of general formula (I); and (b) one or several Lewis or protonic acids or a mixture of Lewis and protonic acids.(FR) Ces systèmes catalyseurs contiennent comme éléments constitutifs actifs (a) un complexe métallique de formule générale (I); et (b) un ou plusieurs acides de Lewis ou acides protoniques ou un mélange d'acides de Lewis et d'acides protoniques.

  (DE) 催化系体系，包含以下活性成分： a) 一种一般的金属复合物公式（I）； b) 一种或几种莱wis酸、质子酸或莱wis酸与质子酸的混合物。(EN) Catalyst systems contain as active components (a) a metal complex of general formula (I); and (b) one or several Lewis or protonic acids or a mixture of Lewis and protonic acids. (法语) Les systèmes catalyseurs contiennent comme éléments constituents actifs (a) un complexe métallique de formule générale (I); et (b) un ou plusieurs acides de Lewis ou acides protoniques ou un mélange d'acides de Lewis et d'acides protoniques.
• [DE] CIS-VERBRÜCKTE METALLKOMPLEXE<br/>[EN] CIS-BRIDGED METAL COMPLEXES<br/>[FR] COMPLEXES METALLIQUES PONTES EN CIS
  申请人：BASF AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：WO1998025939A1

  公开（公告）日：1998-06-18

  (DE) Cis-verbrückte Metallkomplexe der allgemeinen Formel (I), in welcher die Substituenten und Indizes die folgende Bedeutung haben: R5 Wasserstoff oder Substituenten, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus C1- bis C20-kohlenstofforganischen und C3- bis C30-siliciumorganischen Resten in substituierter und unsubstituierter Form, oder NR6R7-Substituenten, oder einen Rest der allgemeinen Formel (II), in der q eine ganze Zahl von 0 bis 20 bedeutet und R', R'' Wasserstoff oder Substituenten, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus C1- bis C20-kohlenstofforganischen und C3- bis C30-siliciumorganischen Resten, darstellen und die weiteren Substituenten in (II) wie in (I) die nachfolgende Bedeutung haben, M ein Metall aus der Gruppe VIIIB des Periodensystems der Elemente, E1, E2 ein Element aus der Gruppe VA des Periodensystems der Elemente, Z ein Element aus der Gruppe VA des Periodensystems der Elemente, R1 bis R4 Substituenten, unabhängig voneinander ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus C1- bis C20-kohlenstofforganischen und C3- bis C30-siliciumorganischen Resten in substituierter und unsubstituierter Form, A', B' C1-C4-Alkyleneinheiten in substituierter und unsubstituierter Form, silylenverbrückte organische Reste sowie NR8-Reste, R6 bis R8 Wasserstoff oder Substituenten, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus C1- bis C20-kohlenstofforganischen und C3- bis C30-siliciumorganischen Resten, L1, L2 formal geladene oder neutrale Liganden, ausgenommen L1 = L2 = Chlorid für R5 ¸ II), X formal ein- oder mehrwertige Anionen, p 0, 1, 2, 3 oder 4, m, n 0, 1, 2, 3 oder 4, wobei p = m x n.(EN) Cis-bridged metal complexes have the general formula (I), in which the substituents and indexes have the following meanings: R5 stands for hydrogen or for substituents selected from the group of substituted or unsubstituted organic C1-C20 carbon radicals and organic C3-C30 silicon radicals, NR6R7 substituents or a radical of general formula (II), in which q is an integer from 0 to 20; R', R'' stand for hydrogen or substituents selected from the group of organic C1-C20 carbon radicals and organic C3-C30 silicon radicals; and the other substituents in (II) and (I) have the following meanings: M stands for a metal of group VIIIB of the periodic table of elements; E1, E2 stand for an element of group VA of the periodic table of elements; Z stands for an element of group VA of the periodic table of elements; R1 to R4 stand for substituents independently selected from the group of substituted or unsubstituted organic C1-C20 carbon radicals and organic C3-C30 silicon radicals; A', B' stand for substituted and unsubstituted C1-C4-alkylene units, silylene-bridged organic radicals and NR8 radicals; R6 to R8 stand for hydrogen or for substituents selected from the group of organic C1-C20 carbon radicals and organic C3-C30 silicon radicals; L1, L2 are formally charged or neutral ligands, with the exception of L1 = L2 = chloride when R5 ¸ (II); X stands for formally monovalent or polyvalent anions; p equals 0, 1, 2, 3 or 4; m, n equal 0, 1, 2, 3 or 4, whereas p = m x n.(FR) Ces complexes métalliques pontés en cis répondent à la formule générale (I), dans laquelle les substituants et les indices ont la signification suivante: R5 désigne hydrogène ou des substituants sélectionnés dans le groupe constitué des radicaux organiques de carbone en C1 à C20 et des radicaux organiques de silicium en C3 à C30 sous une forme substituée ou non, des substituants de formule NR6R7, ou un radical de formule générale (II), dans laquelle q désigne un nombre entier de 0 à 20; et R'' désigne hydrogène ou des substituants sélectionnés dans le groupe constitué des radicaux organiques de carbone en C1 à C20 et des radicaux organiques de silicium en C3 à C30, les autres substituants dans les formules (II) et (I) ayant la signification suivante: M désigne un métal du groupe VIIIB de la table périodique des éléments; E1, E2 désignent un élément du groupe VA de la table périodique des éléments; Z désigne un élément du groupe VA de la table périodique des éléments; R1 à R4 désignent des substituants sélectionnés indépendamment les uns des autres dans le groupe constitué des radicaux organiques de carbone en C1 à C20 et des radicaux organiques de silicium en C3 à C30 sous une forme substituée ou non; A', B' désignent des unités alcylène en C1-C4 sous une forme substituée ou non, des radicaux organiques à pontage silylène ou des radicaux NR8; R6 à R8 désignent hydrogène ou des substituants sélectionnés dans le groupe constitué des radicaux organiques de carbone en C1 à C20 et des radicaux organiques de silicium en C3 à C30; L1, L2 sont des ligands formellement chargés ou neutres, à l'exception de L1 = L2 = chlorure quand R5 ¸ (II); X désigne des anions formellement monovalents ou polyvalents; p vaut 0, 1, 2, 3, ou 4; m, n vaut 0, 1, 2, 3 ou 4; p étant égal à m x n.

  （德）顺式桥联金属配合物具有通式（I），其中各取代基和指数具有以下含义：R5代表氢或选自以下组的取代基：C1-C20碳有机基团和C3-C30硅有机基团（取代或未取代形式）、NR6R7取代基，或具有通式（II）的基团，其中q表示0至20的整数；R'、R''代表氢或选自以下组的取代基：C1-C20碳有机基团和C3-C30硅有机基团；而（II）和（I）中的其他取代基具有以下含义：M代表元素周期表VIIIB族的金属；E1、E2代表元素周期表VA族的元素；Z代表元素周期表VA族的元素；R1至R4代表独立选自以下组的取代基：取代或未取代的C1-C20碳有机基团和C3-C30硅有机基团；A'、B'代表取代或未取代的C1-C4亚甲基单元、含硅桥的有机基团以及NR8基团；R6至R8代表氢或选自以下组的取代基：C1-C20碳有机基团和C3-C30硅有机基团；L1、L2为形式带正电荷或中性的配体，R5为（II）时除外L1 = L2 = 氯；X代表形式上单阴离子或多阴离子；p等于0、1、2、3或4；m、n等于0、1、2、3或4，且p = m × n。
• CIS-VERBRÜCKTE METALLKOMPLEXE
  申请人：BASF AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0944638A1

  公开（公告）日：1999-09-29
• KATALYSATORSYSTEME FÜR DIE HERSTELLUNG VON COPOLYMERISATEN AUS KOHLENMONOXID UND OLEFINISCH UNGESÄTTIGTEN VERBINDUNGEN
  申请人：BASF AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0944666A1

  公开（公告）日：1999-09-29