2',2',5',5'-tetramethyl-3'-methylene-1-tosylspiro[indoline-3,4'-[1,2]oxasilolane] | 1142425-92-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2',2',5',5'-tetramethyl-3'-methylene-1-tosylspiro[indoline-3,4'-[1,2]oxasilolane]
• 英文别名: 2',2',5',5'-tetramethyl-3'-methylidene-1-(4-methylphenyl)sulfonylspiro[2H-indole-3,4'-oxasilolane]
• CAS: 1142425-92-0
• 化学式: C₂₂H₂₇NO₃SSi
• 分子量: 413.613
• InChiKey: QHNVDXZTNBWWPB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.55
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  55
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-(2-iodophenyl)-4-methyl-N-[3-(trimethylsilyl)prop-2-ynyl]benzenesulfonamide 、 丙酮 、 亚甲基双(碘锌) 在 (1,2-bis(diphenylphosphino)ethane)nickel(II) chloride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 8.0h， 以86%的产率得到2',2',5',5'-tetramethyl-3'-methylene-1-tosylspiro[indoline-3,4'-[1,2]oxasilolane]
  参考文献：
  名称：

  使用甲基作为离去基团将碳亲核试剂顺序引入硅原子上

  摘要：

  具有空间上紧邻羟基的三甲基甲硅烷基的分子结构将硅上的甲基转化为良好的离去基团。

  DOI：

  10.1246/cl.2009.116

文献信息

• Sequential Introduction of Carbon Nucleophiles onto Silicon Atoms Using Methyl as a Leaving Group
  作者：Hiroaki Horie、Yuichi Kajita、Seijiro Matsubara

  DOI：10.1246/cl.2009.116

  日期：2009.2.5

  A molecular structure, which has a trimethylsilyl group in close proximity to a hydroxy group spatially, converts methyl on silicon into a good leaving group.

  具有空间上紧邻羟基的三甲基甲硅烷基的分子结构将硅上的甲基转化为良好的离去基团。