1,6-naphthalenedialdehyde | 102877-82-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1,6-naphthalenedialdehyde
• 英文别名: naphthalene-1,6-dicarbaldehyde；Naphthalin-1,6-dicarbaldehyd
• CAS: 102877-82-7
• 化学式: C₁₂H₈O₂
• 分子量: 184.194
• InChiKey: OFMZRGPHZODFOD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  113 °C
• 沸点：
  373.6±15.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.254±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  34.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  萘 、 一氧化碳 在 氢氟酸 、 五氟化锑 作用下， 20.0 ℃ 、6.08 MPa 条件下， 反应 2.0h， 生成 naphthalene-1,5-dicarbaldehyde 、 1,7-naphthalenedialdehyde 、 1,6-naphthalenedialdehyde
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of polynuclear aromatic dialdehydes in hydrogen fluoride-antimony pentafluoride

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00063a057

文献信息

• PHOSPHAPHENANTHRENE-BASED COMPOUND AND RELATED PREPARATION METHOD AND APPLICATION
  申请人：Elite Electronic Material(Zhongshan) Co., Ltd.

  公开号：US20170022228A1

  公开（公告）日：2017-01-26

  Provided is a phosphaphenanthrene-based compound represented by the following chemical structure: The phosphaphenanthrene-based compound can be added in a resin composition and made into a prepreg or resin film. The prepreg or resin film made from such resin composition has low coefficient of thermal expansion, low dielectric constant and dissipation factor, and flame retardancy, thereby being suitable for copper-clad laminate or printed circuit board.

  提供的是以下化学结构所代表的基于磷菲的化合物： 这种基于磷菲的化合物可以添加到树脂组合物中，并制成预浸料或树脂薄膜。从这种树脂组合物制成的预浸料或树脂薄膜具有低热膨胀系数、低介电常数和介质损耗因子，以及阻燃性，因此适用于铜覆层层压板或印刷电路板。
• Diformylation of polynuclear aromatic compounds with CO in HF–SbF₅
  作者：Mutsuo Tanaka、Yoshie Souma

  DOI：10.1039/c39910001551

  日期：——

  Diformylation of polynuclear aromatic compounds, such as naphthalene, diphenyl, diphenylmethane and dibenzyl with CO was accomplished in a HF–SbF5 system by a one-pot reaction.

  在 HFâSbF5 系统中，通过一锅反应完成了多核芳香化合物（如萘、二苯基、二苯基甲烷和二苄基）与 CO 的二甲酰化反应。
• Compound for Resist and Radiation-Sensitive Composition
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20080113294A1

  公开（公告）日：2008-05-15

  A radiation-sensitive composition containing 1 to 80% by weight of a solid component and 20 to 99% by weight of a solvent. The solid component contains a compound B which has (a) a structure derived from a polyphenol compound A by introducing an acid-dissociating group to at least one phenolic hydroxyl group of the polyphenol compound A which is synthesized by a condensation between a di- to tetrafunctional aromatic ketone or aromatic aldehyde each having 5 to 36 carbon atoms with a compound having 1 to 3 phenolic hydroxyl groups and 6 to 15 carbon atoms, and (b) a molecular weight of 400 to 2000. The composition containing the compound B is useful as an acid-amplified, non-polymeric resist material, because it is highly sensitive to radiation such as KrF excimer lasers, extreme ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, and provides resist patterns with a high resolution, high heat resistance, and high etching resistance.

  一种辐射敏感的组合物，包含1至80重量％的固体组分和20至99重量％的溶剂。固体组分包含化合物B，其具有（a）通过向多酚化合物A的至少一个酚羟基引入酸解离基而导出的结构，多酚化合物A通过二元至四元芳香酮或芳香醛的缩合反应，每个具有5至36个碳原子的化合物与具有1至3个酚羟基和6至15个碳原子的化合物结合，并且（b）分子量为400至2000。含有化合物B的组合物非常敏感于辐射，例如KrF准分子激光器，极紫外线，电子束和X射线，并且提供具有高分辨率，高耐热性和高蚀刻抗性的抗阻图案，因此可用作酸放大的非聚合物抗阻材料。
• COMPOUND FOR RESIST AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：ECHIGO Masatoshi

  公开号：US20110165516A1

  公开（公告）日：2011-07-07

  A radiation-sensitive composition containing 1 to 80% by weight of a solid component and 20 to 99% by weight of a solvent. The solid component contains a compound B which has (a) a structure derived from a polyphenol compound A by introducing an acid-dissociating group to at least one phenolic hydroxyl group of the polyphenol compound A which is synthesized by a condensation between a di- to tetrafunctional aromatic ketone or aromatic aldehyde each having 5 to 36 carbon atoms with a compound having 1 to 3 phenolic hydroxyl groups and 6 to 15 carbon atoms, and (b) a molecular weight of 400 to 2000. The composition containing the compound B is useful as an acid-amplified, non-polymeric resist material, because it is highly sensitive to radiation such as KrF excimer lasers, extreme ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, and provides resist patterns with a high resolution, high heat resistance, and high etching resistance.

  一种辐射敏感组合物，含有1-80重量％的固体组分和20-99重量％的溶剂。固体组分包含化合物B，其具有（a）从多酚化合物A导出的结构，通过在多酚化合物A的至少一个酚羟基上引入酸解离基团而合成，多酚化合物A是由具有5至36个碳原子的二元至四元芳香酮或芳香醛与具有1至3个酚羟基和6至15个碳原子的化合物之间的缩合反应合成的；（b）分子量为400至2000。含有化合物B的组合物可用作酸放大，非聚合物抗蚀材料，因为它对KrF准分子激光、极紫外线、电子束和X射线等辐射非常敏感，并提供具有高分辨率、高耐热性和高蚀刻抗性的抗蚀图案。
• Procédé de fabrication de polycondensats multiséquencés, en étoile ou en réseaux par couplage à l'aide de di- ou multi-aldéhydes, et polycondensats ainsi obtenus
  申请人：ELF ATOCHEM S.A.

  公开号：EP0551221A1

  公开（公告）日：1993-07-14

  Procédé de couplage d'un polymère vivant contenant des unités (meth)acryliques terminales vivantes qui comprend les étapes de: (i) polymérisation anionique à l'aide d'un système initiateur constitué par un amorceur fonctionnel et un ligand afin d'obtenir un polymère vivant contenant des unités (meth)acryliques terminales vivantes; (ii) réaction avec un composé aldéhyde de formule:         R-(CHO)r dans laquelle r ≧ 2; et (iii) récupération du polycondensat final par des moyens connus en eux-mêmes.

  一种偶联含有活端（甲基）丙烯酸单元的活聚合物的方法，包括以下步骤 (i) 使用由官能引发剂和配体组成的引发剂体系进行阴离子聚合，以获得含有活端 (甲基)丙烯酸单元的活聚合物； (ii) 与式中的醛化合物反应： R-(CHO)r 其中 r ≧ 2；以及 (iii) 通过本身已知的方法回收最终的缩聚物。