bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethane | 22428-33-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 英文名称: bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethane
• 英文别名: 1,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethane；1,2 Bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethane；2-amino-4-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol
• CAS: 22428-33-7
• 化学式: C₁₄H₁₆N₂O₂
• 分子量: 244.293
• InChiKey: QFQNRDDXHNGFNW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  92.5
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethane 在 乙酸酐 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 136.29h， 生成
  参考文献：
  名称：

  非共轭部花青染料二聚体中的激子和电荷转移相互作用：系链双色团和准分子的新型溶剂致变色行为

  摘要：

  一系列的部花青染料二聚体连接在不同位点，间隔基范围为 0 到 5 个亚甲基，并合成了相应的单体。已经通过紫外/可见吸收光谱、稳态荧光和荧光寿命测量研究了溶液和硬质玻璃中随后产生的部花青染料“聚集体”的形成、结构和激发态特性。具有 0 和 1 亚甲基间隔的二聚体必须以或多或少的延伸构象存在；因此，它们显示出非常弱且与距离相关的“J”型激子耦合，这在吸收光谱和荧光光谱中都很明显。对于具有 2、3 和 5 亚甲基间隔基的二聚体，在非极性溶剂中的吸收光谱与很大程度上扩展的构型和很少或没有明显的激子耦合一致。然而，对于极性更大的溶剂，观察到吸收光谱蓝移，表明折叠构型导致“H”二聚体。对于后者的二聚体，荧光光谱...

  DOI：

  10.1021/ja983778h
• 作为产物：
  描述：

  4,4'-亚乙基二苯甲醚 在 platinum(IV) oxide 氢气 、 硝酸 、 三溴化硼 作用下， 以 乙醇 、 二氯甲烷 为溶剂， 20.0~25.0 ℃ 、344.74 kPa 条件下， 反应 48.0h， 生成 bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)ethane
  参考文献：
  名称：

  非共轭部花青染料二聚体中的激子和电荷转移相互作用：系链双色团和准分子的新型溶剂致变色行为

  摘要：

  一系列的部花青染料二聚体连接在不同位点，间隔基范围为 0 到 5 个亚甲基，并合成了相应的单体。已经通过紫外/可见吸收光谱、稳态荧光和荧光寿命测量研究了溶液和硬质玻璃中随后产生的部花青染料“聚集体”的形成、结构和激发态特性。具有 0 和 1 亚甲基间隔的二聚体必须以或多或少的延伸构象存在；因此，它们显示出非常弱且与距离相关的“J”型激子耦合，这在吸收光谱和荧光光谱中都很明显。对于具有 2、3 和 5 亚甲基间隔基的二聚体，在非极性溶剂中的吸收光谱与很大程度上扩展的构型和很少或没有明显的激子耦合一致。然而，对于极性更大的溶剂，观察到吸收光谱蓝移，表明折叠构型导致“H”二聚体。对于后者的二聚体，荧光光谱...

  DOI：

  10.1021/ja983778h

文献信息

• Bisbenzothiazine, bisbenzodiazine and bisquinoline pharmaceutical
  申请人：USV Pharmaceutical Corp.

  公开号：US04666909A1

  公开（公告）日：1987-05-19

  Compounds of the formula: ##STR1## wherein, R is H, alkyl, cycloalkyl, aryl or heteroaryl; R.sub.1 is H, alkyl, cycloalkyl, aryl, heteroaryl, substituted heteroaryl, aralkyl, substituted aryl, halo, OR.sup.2, SR.sup.2, NR.sub.2, CF.sub.3, NO.sub.2, CN, COOR.sup.2, CHO, SO.sub.3 H or SO.sub.2 NH.sub.2, wherein R.sup.2 is H, methyl, ethyl or propyl; Y is ##STR2## Z is O, S, NH or CH.sub.2 ; X is ##STR3## wherein R.sup.2 is H, methyl, ethyl or propyl; n is 1-10, and pharmaceutically acceptable salts thereof have antiallergy and antiinflammatory activity.

  化合物的公式为：##STR1## 其中，R是H，烷基，环烷基，芳基或杂芳基；R.sub.1是H，烷基，环烷基，芳基，杂芳基，取代杂芳基，芳基烷基，取代芳基，卤素，OR.sup.2，SR.sup.2，NR.sub.2，CF.sub.3，NO.sub.2，CN，COOR.sup.2，CHO，SO.sub.3 H或SO.sub.2 NH.sub.2，其中R.sup.2是H，甲基，乙基或丙基；Y是##STR2## Z是O，S，NH或CH.sub.2；X是##STR3## 其中R.sup.2是H，甲基，乙基或丙基；n为1-10，其药物可接受的盐具有抗过敏和抗炎活性。
• Bisbenzoxazines and pharmaceutical use
  申请人：USV Pharmaceutical Corp.

  公开号：US04552876A1

  公开（公告）日：1985-11-12

  Compounds of the formula: ##STR1## wherein, R is H, alkyl, cycloalkyl, aryl, or heteroaryl; R.sub.1 is H, alkyl, cycloalkyl, aryl, heteroaryl, substituted heteroaryl, aralkyl, substituted aryl, halo, OR.sup.2, SR.sup.2, NR.sub.2, CF.sub.3, NO.sub.2, CN, COOR.sup.2, CHO, SO.sub.3 H or SO.sub.2 NH.sub.2, wherein R.sup.2 is H, methyl, ethyl or propyl; Y is ##STR2## Z is O, S, NH or CH.sub.2 ; X is --CH.sub.2 --, ##STR3## or --(CH.sub.2).sub.n CHOH(CH.sub.2).sub.n --; wherein R.sup.2 is H, methyl, ethyl or propyl; n is 1-10, and pharmaceutically acceptable salts thereof have antiallergy and antiinflammatory activity.

  化合物的公式为：##STR1## 其中，R为H，烷基，环烷基，芳基或杂环芳基；R.sub.1为H，烷基，环烷基，芳基，杂环芳基，取代的杂环芳基，芳基烷基，取代的芳基，卤素，OR.sup.2，SR.sup.2，NR.sub.2，CF.sub.3，NO.sub.2，CN，COOR.sup.2，CHO，SO.sub.3 H或SO.sub.2 NH.sub.2，其中R.sup.2为H，甲基，乙基或丙基；Y为##STR2## Z为O，S，NH或CH.sub.2；X为--CH.sub.2--，##STR3##或--(CH.sub.2).sub.n CHOH(CH.sub.2).sub.n--；其中R.sup.2为H，甲基，乙基或丙基；n为1-10，其药学上可接受的盐具有抗过敏和抗炎活性。
• Heat resistant polyamides and polybenzoxazoles from bis-[(aminohydroxyphenyl hexafluoro-isopropyl] diphenyl ethers
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0317942A2

  公开（公告）日：1989-05-31

  Heat resistant, shapable, hydroxy and/or alkoxy-substituted polyamides derived from at least one diamine selected from unsubstituted and substituted 4,4'-bis[2-(4-amino- 3-hydroxyphenyl)hexafluoroisopropyl)]­diphenyl ether, 4,4'-bis-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoroisopropyl]diphenyl ether and a dicarboxylic acid or a derivative thereof e.g. its acid halo or ester. The polyamides of the application may be thermally cured to form polybenzoxazoles of higher heat resistance which are stable to hydrolytic, chemical and radiation attack. The polyamides of the application may be formed into shaped articles by molding, extrusion and solvent casting processes preferably in the presence of a solvent or diluent and then optionally converted into heat resistant, insoluble polybenzoxazoles. These shaped articles are useful in aircraft, electronic and other commercial applications where heat, chemical and radiation resistance are desired in conjunction with good mechanical and electrical properties.

  耐热、可塑形、羟基和/或烷氧基取代的聚酰胺，由至少一种二胺衍生而成，该二胺选自未取代和取代的 4,4'-双[2-(4-氨基-3-羟基苯基)六氟异丙基)]二苯醚、4,4'-双-[2-(3-氨基-4-羟基苯基)六氟异丙基]二苯醚和二羧酸或其衍生物，例如其酸卤或酯。本申请中的聚酰胺可以通过热固化形成耐热性更高的聚苯并恶唑，这种聚苯并恶唑对水解、化学和辐射侵蚀稳定。 本申请中的聚酰胺可通过模塑、挤压和溶剂浇铸工艺制成定型物品，最好是在有溶剂或稀释剂存在的情况下，然后选择性地转化为耐热、不溶解的聚苯并恶唑。在飞机、电子和其他商业应用中，需要耐热性、耐化学性和耐辐射性，并具有良好的机械和电气性能，这些异型制品非常有用。
• US4552876A
  申请人：——

  公开号：US4552876A

  公开（公告）日：1985-11-12
• US4845183A
  申请人：——

  公开号：US4845183A

  公开（公告）日：1989-07-04