Positiv-Fotoresist-Zusammensetzungen, enthaltend in einem organischen Lösungsmittel mindestens je
a) ein alkalilösliches Harz,
b) eine fotoempfindliche Chinondiazid-Verbindung,
c) eine die Fotoempfindlichkeit und/oder die Entwicklungsrate steigernde aromatische Hydroxyverbindung der Formel I
worin R unabhängig voneinander -H, C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-Alkoxy, -OCH₂C₆H₅, -OC₆H₅ oder -COOC₁-C₄-Alkyl, und R₁ und R₂ unabhängig voneinander H, C₁-C₄-Alkyl, -C₆H₅ oder einen cycloaliphatischen 5- oder 6-Ring bedeuten, a eine ganze Zahl von Null bis 4, und m und n unabhängig voneinander die Zahl Null, 1 oder 2 darstellen, sowie gegebenenfalls
d) weitere übliche Zusätze,
eignen sich ausgezeichnet zur Herstellung von Reliefstrukturen.
在有机溶剂中含有以下至少一种成分的正性光刻胶组合物
a) 碱溶性
树脂、
b) 一种光敏重氮化醌化合物、
c) 式 I 的光敏性和/或显影速率增强型
芳烃羟基化合物
其中 R 相互独立地为-H、C₁-C₄-烷基、C₁-C₄-烷氧基、-OCH₂C₆H₅、-OC₆H₅或-COOC₁-C₄-烷基,且 R₁ 和 R₂ 相互独立地为 H、C₁-C₄-烷基、-C₆H₅或环脂族 5 或 6 元环,a 是 0 至 4 的整数,m 和 n 各自代表 0、1 或 2,可选地
d) 其他常用添加剂、
非常适合生产浮雕结构。