4-氯-2-({(1E)-1-[(3,5-二甲基苯基)氨基]亚乙基}氨基)苯甲酸 | 74109-35-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-氯-2-({(1E)-1-[(3,5-二甲基苯基)氨基]亚乙基}氨基)苯甲酸
• 英文名称: 2-nitrobenzyl phenylcarbamate
• 英文别名: Carbamic acid, phenyl-, (2-nitrophenyl)methyl ester；(2-nitrophenyl)methyl N-phenylcarbamate
• CAS: 74109-35-6
• 化学式: C₁₄H₁₂N₂O₄
• 分子量: 272.26
• InChiKey: AHBXIXRJLUDQNU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  84.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-氯-2-({(1E)-1-[(3,5-二甲基苯基)氨基]亚乙基}氨基)苯甲酸 生成 2-nitrosobenzaldehyde 、 苯胺
  参考文献：
  名称：

  可光活化的荧光团。1.邻硝基苄基猝灭的荧光氨基甲酸酯的合成和光活化。

  摘要：

  描述了新型荧光探针，可光活化的荧光团（PAF）的合成和光活化。本文中描述的PAF由荧光性芳香胺组成，这些胺通过氨基甲酸酯键与取代的硝基苄基猝灭发色团偶联。通过分子内的光-氧化还原反应发生光活化，将邻硝基苄基转化为不稳定的邻硝基亚硝基苯甲醛半缩醛，该片段断裂并失去CO 2释放出荧光胺。还报道了光活化量子产率。

  DOI：

  10.1016/0040-4039(88)80017-0
• 作为产物：
  描述：

  N-苯基甲酰胺 在 [双(三氟乙酰氧基)碘]苯 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 1.03h， 生成 4-氯-2-({(1E)-1-[(3,5-二甲基苯基)氨基]亚乙基}氨基)苯甲酸
  参考文献：
  名称：

  Metal free oxidative coupling of aryl formamides with alcohols for the synthesis of carbamates

  摘要：

  在无金属条件下，已开发出一种新方法，可将N-芳基甲酰胺直接转化为相应的N-芳基氨基甲酸酯，使用醇和过氧化碘作为氧化剂。据推测，该反应通过异氰酸酯中间体的形成进行。

  DOI：

  10.1039/c4ob00066h

文献信息

• [EN] AMINOLIPIDOIDS AND USES THEREOF<br/>[FR] AMINOLIPIDOÏDES ET UTILISATIONS DE CEUX-CI
  申请人：PRECERES INC

  公开号：WO2017100744A1

  公开（公告）日：2017-06-15

  The present disclosure is directed to novel aminolipidoids, formulations thereof further comprising at least one active agent, as well as methods of delivering the at least one active agent to a target organism.

  本公开涉及新型氨基脂质类化合物，包括至少一种活性剂的配方，以及将至少一种活性剂传递给目标生物体的方法。
• Nitrobenzyl halides and carbamates as prototype bioreductive alkylating agents
  作者：Beverly A. Teicher、Alan C. Sartorelli

  DOI：10.1021/jm00182a027

  日期：1980.8

  cytotoxic to hypoxic cells than to oxygenated cells. This selective cytotoxicity is hypothesized to result from alkylation following more efficacious bioreductive activation of these compounds by hypoxic cells. Nitrobenzyl compounds with such selective toxicity to hypoxic neoplastic cells may prove to be particularly valuable in combination therapy designed for the treatment of solid tumors.

  制备了邻硝基苄基和对硝基苄基醇，卤化物和N-取代的氨基甲酸酯作为潜在的生物还原烷基化剂，并通过微分脉冲极谱法测量了这些化合物的前半波还原电势。这些试剂的细胞毒性通过在正常曝气和慢性缺氧条件下于37℃在0.01至500 microM的浓度下暴露于每种试剂1 h后确定EMT6肿瘤细胞的集落形成能力来进行检查。邻硝基苄基化合物对缺氧细胞的细胞毒性比对氧化细胞的细胞毒性大得多。推测这种选择性的细胞毒性是由低氧细胞对这些化合物进行更有效的生物还原活化后的烷基化引起的。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
  申请人：Toray Industries, Inc.

  公开号：EP3203320A1

  公开（公告）日：2017-08-09

  To provide a photosensitive resin composition which is capable of forming a pattern with high resolution and obtaining a cured film having excellent heat resistance and cracking resistance, and is also alkali developable; and a method capable of shortening the step required to remove a cured film of the composition after formation of an impurity region on a semiconductor substrate; and a method for manufacturing a semiconductor device using the same. Disclosed is a photosensitive resin composition including a polysiloxane (A), wherein the polysiloxane (A) is a polysiloxane represented by the general formula (1), and wherein (X) and (Y) are represented by the general formulas (4) to (6). 7.5≤X≤75 2.5≤Y≤40 1.5×Y≤X≤3×Y

  提供一种光敏树脂组合物，该组合物能够形成具有高分辨率的图案并获得具有优异的耐热性和抗裂性的固化膜，而且还可进行碱显影；提供一种方法，该方法能够缩短在半导体衬底上形成杂质区后去除该组合物固化膜所需的步骤；以及提供一种使用该组合物制造半导体器件的方法。公开了一种包括聚硅氧烷(A)的光敏树脂组合物，其中聚硅氧烷(A)是由通式(1)表示的聚硅氧烷，且(X)和(Y)由通式(4)至(6)表示。7.5≤x≤75 2.5≤y≤40 1.5×y≤x≤3×y
• Photosensitive resin composition, protective film, and liquid crystal display element
  申请人：Chi Mei Corporation

  公开号：US10162260B2

  公开（公告）日：2018-12-25

  The invention shows a photosensitive resin composition which can be used in protective film and liquid crystal display element and provides good transparency and high chemical resistance. The composition includes a complex resin (A), an o-naphthoquinone diazide sulfonate (B), and a solvent (C). The complex resin (A) includes a main chain and a side chain. The main chain includes a repeating unit derived from siloxane (meth)acrylate based monomer (a1-2). The side chain includes a repeating unit derived from siloxane based monomer (a2), and is bonded to the repeating unit derived from siloxane (meth)acrylate based monomer (a1-2). The complex resin (A) satisfies at least one of the following conditions (I) and (II): Condition (I): the main chain further includes a repeating unit derived from unsaturated monomer (a1-1) including a carboxylic acid or a carboxylic anhydride. Condition (II): the siloxane based monomer (a2) includes a monomer (a2-1) represented by formula (A-4).

  本发明展示了一种光敏树脂组合物，可用于保护膜和液晶显示元件，具有良好的透明性和高耐化学腐蚀性。该组合物包括复合树脂（A）、邻萘醌重氮磺酸盐（B）和溶剂（C）。复合树脂（A）包括一条主链和一条侧链。主链包括由硅氧烷（甲基）丙烯酸酯单体（a1-2）衍生的重复单元。侧链包括硅氧烷基单体（a2）衍生的重复单元，并与硅氧烷（甲基）丙烯酸酯基单体（a1-2）衍生的重复单元键合。复合树脂（A）至少满足以下条件（I）和（II）之一： 条件 (I)：主链还包括一个由不饱和单体（a1-1）衍生的重复单元，不饱和单体（a1-1）包括羧酸或羧酸酐。 条件（II）：硅氧烷基单体（a2）包括由式（A-4）表示的单体（a2-1）。
• Photosensitive resin composition, cured film, element provided with cured film, and method for manufacturing semiconductor device
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US10409163B2

  公开（公告）日：2019-09-10

  To provide a photosensitive resin composition which is capable of forming a pattern with high resolution and obtaining a cured film having excellent heat resistance and cracking resistance, and is also alkali developable; and a method capable of shortening the step required to remove a cured film of the composition after formation of an impurity region on a semiconductor substrate; and a method for manufacturing a semiconductor device using the same. Disclosed is a photosensitive resin composition including a polysiloxane (A).

  提供一种光敏树脂组合物，该组合物能够形成高分辨率的图案并获得具有优异耐热性和抗裂性的固化膜，而且还可进行碱显影；提供一种方法，该方法能够缩短在半导体衬底上形成杂质区后去除该组合物固化膜所需的步骤；以及提供一种使用该组合物制造半导体器件的方法。本发明公开了一种包括聚硅氧烷（A）的光敏树脂组合物。