1,1-difluoro-2-(2-hydroxyoctyloxy)ethanesulfonic acid sodium salt | 1392424-58-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: 1,1-difluoro-2-(2-hydroxyoctyloxy)ethanesulfonic acid sodium salt
• 英文别名: Sodium;1,1-difluoro-2-(2-hydroxyoctoxy)ethanesulfonate
• CAS: 1392424-58-6
• 化学式: C₁₀H₁₉F₂O₅S*Na
• 分子量: 312.31
• InChiKey: WYXKXHOAINDSGW-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.52
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  95
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

文献信息

• PHOTOACID GENERATOR, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
  申请人：OH Jung Hoon

  公开号：US20120203030A1

  公开（公告）日：2012-08-09

  A photoacid generator represented by the following formula (1), a method for producing the photoacid generator, and a resist composition containing the photoacid generator are provided. wherein in the formula (1), Y, X, R 1 , R 2 , n 1 , n 2 and A + have the same meanings as defined in the detailed description of the invention. The photoacid generator can maintain an appropriate contact angle at the time of ArF liquid immersion lithography, can reduce defects occurring during liquid immersion lithography, and has excellent solubility in resist solvents and excellent compatibility with resins. Furthermore, the photoacid generator can be produced by an efficient and simple method using an epoxy compound that is industrially easily available.

  提供以下式子（1）所代表的光酸发生剂，制备该光酸发生剂的方法以及含有该光酸发生剂的抗蚀剂组合物。在式子（1）中，Y、X、R1、R2、n1、n2和A+的含义与发明的详细说明中定义的含义相同。该光酸发生剂可以在ArF液体浸入光刻时保持适当的接触角，可以减少液体浸入光刻时发生的缺陷，并具有优异的溶解度和树脂的优异相容性。此外，该光酸发生剂可以通过使用工业上易得的环氧化合物的高效简单方法制备。
• US8889901B2
  申请人：——

  公开号：US8889901B2

  公开（公告）日：2014-11-18