Hexafluorglutarsaeure-isopropylester | 24607-27-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: Hexafluorglutarsaeure-isopropylester
• 英文别名: 2,2,3,3,4,4-Hexafluoro-5-oxo-5-propan-2-yloxypentanoic acid
• CAS: 24607-27-0
• 化学式: C₈H₈F₆O₄
• 分子量: 282.14
• InChiKey: JMWXUDHVBUZSAN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  六氟戊二酸酐 、 异丙醇 生成 Hexafluorglutarsaeure-isopropylester
  参考文献：
  名称：

  Ginsburg,V.A. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1969, vol. 39, p. 509 - 511

  摘要：

  DOI：

文献信息

• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20220127225A1

  公开（公告）日：2022-04-28

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.

  提供一种化学式为(1)的盐类，作为酸扩散抑制剂，并提供一种化学增强型光刻胶组合物，其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时，该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子，如CDU、LWR和DOF。