4-hydroxyphenyl-diphenylsulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate | 528605-44-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-hydroxyphenyl-diphenylsulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate
• 英文别名: 4-Hydroxyphenyldiphenylsulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate；(4-hydroxyphenyl)-diphenylsulfanium;2-(trifluoromethyl)benzenesulfonate
• CAS: 528605-44-9
• 化学式: C₇H₄F₃O₃S*C₁₈H₁₅OS
• 分子量: 504.551
• InChiKey: YHMIMOFOKCJMTM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.1
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  86.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-hydroxyphenyl-diphenylsulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate 、 potassium carbonate 、 四甲基乙二胺 、 2-氯乙基乙烯基醚 、 在 水 、 正己烷 、 二氯甲烷 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 15.0h， 生成 4--Vinyloxyethoxyphenyldiphenylsulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  PHOTOSENSITIVE RESIN, AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION

  摘要：

  提供一种光敏树脂，实现形成具有良好形状的图案，而不涉及酸发生剂和具有酸可解离基团的光刻原料主要组分聚合物之间相容性差的问题，并且包含该光敏树脂的光敏组合物。该光敏树脂包括由式（1）表示的重复单元：（其中R1表示C2-C9线性或支链二价碳氢基团；R2至R5中的每一个表示氢原子或C1-C3线性或支链碳氢基团；R6和R7中的每一个表示有机基团，其中R6和R7可以共同形成二价有机基团；X-表示阴离子）；由式（2）表示的重复单元中的至少一个：（其中R8表示C2-C9线性或支链碳氢基团）和由式（3）表示的重复单元；由式（4）表示的重复单元；可选地，由式（5）表示的重复单元。

  公开号：

  US20090142697A1

文献信息

• Novel anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030194634A1

  公开（公告）日：2003-10-16

  A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), 1 wherein R 1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R 2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.

  揭示了一种作为辐射敏感树脂组合物添加剂有用的新型蒽衍生物。该蒽衍生物具有以下化学式（1），其中R1基分别表示一个羟基或具有1-20个碳原子的一价有机基团，n是0-9的整数，X是一个单键或具有1-12个碳原子的二价有机基团，R2表示一价酸可解离基团。辐射敏感树脂组合物包括化学式（1）的蒽衍生物，一种在碱性条件下不溶或几乎不溶但在存在酸时变为碱溶的树脂，以及光酸发生剂。该组合物可用作化学放大光刻胶，用于利用KrF准分子激光和ArF准分子激光等深紫外线进行微加工。
• Acid generator, sulfonic acid, sulfonic acid derivatives and radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030113658A1

  公开（公告）日：2003-06-19

  A novel photoacid generator containing a structure of the following formula (I), 1 wherein R is a monovalent organic group with a fluorine content of 50 wt % or less, a nitro group, a cyano group, or a hydrogen atom, and Z 1 and Z 2 are individually a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1-10 carbon atoms, is provided. When used in a chemically amplified radiation-sensitive resin composition, the photoacid generator exhibits high transparency, comparatively high combustibility, and no bioaccumulation, and produces an acid exhibiting high acidity, high boiling point, moderately short diffusion length in the resist coating, and low dependency to mask pattern density.

  提供一种新型光酸发生剂，其含有以下式(I)的结构，其中R是一种具有50重量％或以下氟含量，硝基，氰基或氢原子的一价有机基团，Z1和Z2分别是氟原子或具有1-10个碳原子的线性或支链全氟烷基团。当用于化学增感辐射敏感树脂组成物中时，该光酸发生剂表现出高透明度，相对高的可燃性和无生物积累，并产生具有高酸度，高沸点，适度短的扩散长度在抗蚀涂层中，并且对掩模图案密度的依赖性低的酸。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING LOW-MOLECULAR COMPOUND FOR USE THEREIN
  申请人：Matsumura Nobuji

  公开号：US20090280433A1

  公开（公告）日：2009-11-12

  A radiation-sensitive composition contains (A) a low-molecular-weight compound having one or more acid-dissociable groups which decompose by the action of an acid to enhance solubility in an alkaline developing solution and one or more radiation-sensitive acid-generating groups which generate an acid upon application of an active ray or radiation per molecule, and having a polystyrene-reduced number-average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 4,000, and (B) a solvent.

  一种辐射敏感组合物包含（A）低分子量化合物，其具有一个或多个酸解离基团，该基团在酸作用下分解，以增强其在碱性显影液中的溶解性，并且每个分子具有一个或多个辐射敏感酸生成基团，该基团在施加活性射线或辐射时产生酸，并且其聚苯乙烯还原平均分子量（Mn）通过凝胶渗透色谱（GPC）测量为500至4,000，并且（B）溶剂。
• Photosensitive resin, and photosensitive composition
  申请人：Hyogo Prefecture

  公开号：US07858287B2

  公开（公告）日：2010-12-28

  A photosensitive resin realizes formation of a pattern having a good shape, without introducing poor compatibility between an acid generator and a photoresist primary-component polymer having an acid-dissociable group, and a photosensitive composition containing the photosensitive resin. The photosensitive resin includes a repeating unit represented by formula (1): (wherein R1 represents a C2-C9 linear or branched divalent hydrocarbon group; each of R2 to R5 represents a hydrogen atom or a C1-C3 linear or branched hydrocarbon group; each of R6 and R7 represents an organic group, wherein R6 and R7 may together form a divalent organic group; and X−represents an anion); at least one of a repeating unit represented by formula (2): (wherein R8 represents a C2-C9 linear or branched hydrocarbon group) and a repeating unit represented by formula (3): a repeating unit represented by formula (4): optionally, a repeating unit represented by formula (5).

  一种光敏树脂实现了形成良好形状的图案，不会引入酸发生剂和具有酸可解离基团的光刻主要组分聚合物之间的不良相容性，以及含有该光敏树脂的光敏组合物。该光敏树脂包括由式（1）表示的重复单元：（其中R1表示C2-C9线性或支链双价碳氢基团；R2至R5中的每一个表示氢原子或C1-C3线性或支链碳氢基团；R6和R7中的每一个表示有机基团，其中R6和R7可以共同形成双价有机基团；X-表示阴离子）；由式（2）表示的重复单元中的至少一个：（其中R8表示C2-C9线性或支链碳氢基团）；由式（3）表示的重复单元；由式（4）表示的重复单元；可选地，由式（5）表示的重复单元。
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：US20130108962A1

  公开（公告）日：2013-05-02

  A radiation-sensitive composition includes a low-molecular-weight compound, a solvent and a radiation-sensitive acid-generator other than the low-molecular-weight compound. The low-molecular-weight compound has one or more acid-dissociable groups which decompose by an action of an acid to enhance solubility in an alkaline developing solution and one or more radiation-sensitive acid-generating groups which generate an acid upon application of an active ray or radiation per molecule. The low-molecular-weight compound has a polystyrene-reduced number-average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 4,000. The low-molecular-weight compound is not obtained from chain growth polymerization of a monomer with an unsaturated bond. A content of the low-molecular-weight compound is 80 mass % or more of 100 mass % of a total solid component of the radiation-sensitive composition. The low-molecular-weight compound is a compound shown by a following formula (1).

  一种辐射敏感组合物包括低分子量化合物、溶剂和除低分子量化合物外的辐射敏感酸发生剂。低分子量化合物具有一个或多个酸可解离基团，这些基团在酸的作用下分解，增强在碱性显影液中的溶解度，以及一个或多个辐射敏感酸生成基团，每个分子在施加活性射线或辐射时生成酸。低分子量化合物的聚苯乙烯还原数平均分子量（Mn）通过凝胶渗透色谱（GPC）测量为500至4,000。低分子量化合物不是从具有不饱和键的单体的链生长聚合中获得的。低分子量化合物的含量是辐射敏感组合物的100质量％的总固体成分的80质量％或更多。低分子量化合物是以下公式（1）所示的化合物。