6-methyloctan-2-ol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 6-methyloctan-2-ol
• 化学式: C₉H₂₀O
• 分子量: 144.257
• InChiKey: IBCSSJYUKOBWLB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-甲基-1-戊醇 在 吡啶 、 三溴化磷 、 magnesium 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 63.33h， 生成 6-methyloctan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  大环内酯类和醇类作为马达加斯加蛙蛙类拟人猕猴的气味腺成分及其种内多样性

  摘要：

  青蛙的声音信号的主要手段是声音信号，在较小程度上，视觉信号也是如此。但是，某些血统，例如马达加斯加的曼陀林蛙，也使用化学交流渠道。雄性在后腿上有股腺，最近已显示它们含有挥发性化合物，可作为信息素进行交流。交联剂中存在许多曼陀罗物种，到目前为止，人们认为物种识别主要是通过声信号发生的。通过GC / MS分析股线疣的腺体成分，发现存在挥发性大环内酯类和仲醇类。新的天然产物扁桃体内酯A（4）和B（6）以及几种甲基甲醇被鉴定出来，并通过合成确认了它们的结构。对来自马达加斯加不同地区的个体进行的分析显示，存在着以化合物的特定模式为特征的两组。虽然一组中包含醇和扁桃内酯B，但另一组显示大环内酯类磷脂I（1）和扁桃内酯A（4）的特定存在。某些人的遗传分析显示，遗传相关性与腺体成分之间没有一致性。来自相关物种的其他几个个体具有不同的腺体组成。这表明更广泛的相关物种可能会使用一套基本的生物合成机制。

  DOI：

  10.1021/np400131q

文献信息

• [EN] PROCESS<br/>[FR] PROCÉDÉ
  申请人：PHOSPHAGENICS LTD

  公开号：WO2018112512A1

  公开（公告）日：2018-06-28

  An efficient and commercial phosphorylation process of a complex alcohol, such as secondary and tertiary alcohols, with P4O10 at high temperatures, and a product obtained by the process.

  一种高效商业化的磷酸酯化过程，用于复杂醇类（如二级和三级醇），在高温下使用P4O10，以及该过程得到的产品。
• COOLING SENSATION AGENT COMPOSITION, SENSORY STIMULATION AGENT COMPOSITION AND USE OF THE SAME
  申请人：Komatsuki Yasuhiro

  公开号：US20110081393A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  Disclosed is a cooling sensation agent composition or sensory stimulation agent composition which contains at least one of diester compounds of dicarboxylic acid represented by the formula (1) wherein A represents CH 2 or CH═CH, n represents an integer of 0 to 4 when A is CH 2 , or 1 when A is CH═CH, B is an alcohol residue having 10 to 18 carbon atoms and containing a para-menthane skeleton, which may have a substituent, and C is an alcohol residue having 6 to 18 carbon atoms, which may have a substituent as well as a flavor or fragrance composition, a beverage, a food product, a perfume or cosmetic product, a toiletry product, daily utensil products or groceries, a fiber, a fiber product, clothes, clothing or a medicine, wherein the cooling sensation agent composition or the sensory stimulation agent composition is compounded.

  本文披露了一种包含以下化学式（1）所代表的二羧酸双酯化合物之一的冷却感剂组合物或感官刺激剂组合物，其中A代表CH2或CH═CH，n代表整数0至4（当A为CH2时）或1（当A为CH═CH时），B是含有10至18个碳原子并含有对蒎烷骨架的醇残基，可能有取代基，C是含有6至18个碳原子的醇残基，可能也有取代基，以及香料或香精组合物、饮料、食品产品、香水或化妆品产品、洗涤用品、日用品或杂货、纤维、纤维制品、衣服、服装或药品，其中复合了冷却感剂组合物或感官刺激剂组合物。
• PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, LAMINATE FILM, AND UPPER LAYER FILM FORMATION COMPOSITION
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP3385791A1

  公开（公告）日：2018-10-10

  One embodiment of the present invention provides a pattern forming method including a step for forming an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film on a substrate using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a step for forming an upper layer film on the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using a composition for forming an upper layer film, a step for exposing a laminate film including the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and the upper layer film, and a step for developing the exposed laminate film using a developer including an organic solvent. The composition for forming an upper layer film contains a resin (XA), a resin (XB) containing fluorine atoms, a basic compound (XC), and a solvent (XD), and the resin (XA) is a resin not containing fluorine atoms, or in a case where the resin (XA) contains fluorine atoms, the resin (XA) is a resin having a lower content of fluorine atoms than that in the resin (XB), based on a mass.

  本发明的一个实施例提供了一种图案形成方法，包括使用感光树脂或辐射敏感树脂组合物在基底上形成感光膜或辐射敏感膜的步骤、使用用于形成上层薄膜的组合物在感光膜或辐射敏感膜上形成上层薄膜的步骤，曝光包括感光膜或辐射敏感膜和上层薄膜的层压薄膜的步骤，以及使用包括有机溶剂的显影剂显影曝光的层压薄膜的步骤。用于形成上层薄膜的组合物包含树脂 (XA)、含氟原子的树脂 (XB)、碱性化合物 (XC) 和溶剂 (XD)，并且树脂 (XA) 是不含氟原子的树脂，或者在树脂 (XA) 含有氟原子的情况下，树脂 (XA) 是氟原子含量低于树脂 (XB) 中氟原子含量的树脂（基于质量）。
• Pattern forming method, resist pattern, and method for manufacturing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10114292B2

  公开（公告）日：2018-10-30

  Provided are a pattern forming method capable of providing good DOF and LER, a resist pattern formed by the pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, including the pattern forming method. The pattern forming method includes a step a of coating an active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition onto a substrate to form a resist film, a step b of coating a composition for forming an upper layer film onto the resist film, followed by carrying out heating to 100° C. or higher, to form the upper layer film on the resist film, a step c of exposing the resist film having the upper layer film formed thereon, and a step d of developing the exposed resist film using a developer including an organic solvent to form a pattern.

  本发明提供了一种能够提供良好 DOF 和 LER 的图案形成方法、一种由该图案形成方法形成的抗蚀剂图案，以及一种包括该图案形成方法在内的电子设备制造方法。图案形成方法包括步骤 a：在基板上涂布活性光敏或辐射敏感树脂组合物，以形成抗蚀剂薄膜；步骤 b：在抗蚀剂薄膜上涂布用于形成上层薄膜的组合物，然后加热到 100°C 或更高温度，以在抗蚀剂薄膜上形成上层薄膜；步骤 c：曝光在其上形成上层薄膜的抗蚀剂薄膜；步骤 d：使用包括有机溶剂的显影剂显影曝光的抗蚀剂薄膜，以形成图案。
• Pattern forming method, resist pattern, and process for producing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10578968B2

  公开（公告）日：2020-03-03

  The present invention has an object to provide a pattern forming method capable of providing good DOF and EL, a resist pattern formed by the pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, including the pattern forming method. The pattern forming method of the present invention includes a step a of coating an active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition onto a substrate to form a resist film, a step b of coating a composition for forming an upper layer film onto the resist film to form an upper layer film on the resist film, a step c of exposing the resist film having the upper layer film formed thereon, and a step d of developing the exposed resist film using a developer to form a pattern, in which the active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a hydrophobic resin.

  本发明的目的是提供一种能够提供良好的DOF和EL的图案形成方法、一种由该图案形成方法形成的抗蚀剂图案，以及一种制造电子设备的方法，包括该图案形成方法。本发明的图案形成方法包括步骤 a：在基板上涂布活性光敏或辐射敏感树脂组合物以形成抗蚀剂薄膜；步骤 b：在抗蚀剂薄膜上涂布用于形成上层薄膜的组合物以在抗蚀剂薄膜上形成上层薄膜；步骤 c：曝光形成有上层薄膜的抗蚀剂薄膜；步骤 d：使用显影剂显影曝光的抗蚀剂薄膜以形成图案，其中活性光敏或辐射敏感树脂组合物包含疏水性树脂。