Tyrosylarginine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Tyrosylarginine
• 英文别名: 2-[[2-amino-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-5-(diaminomethylideneamino)pentanoic acid
• 化学式: C₁₅H₂₃N₅O₄
• 分子量: 337.37
• InChiKey: JXNRXNCCROJZFB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.3
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  177
• 氢给体数：
  6
• 氢受体数：
  6

文献信息

• USE OF COMPOUNDS IN THE TREATMENT OF TAU-INDUCED CYTOTOXICITIES
  申请人：Dos Santos Alexandra Maria Barros

  公开号：US20110294741A1

  公开（公告）日：2011-12-01

  The present invention relates to derivatives of L-Tyrosyl-L-Arginine and the use of said derivatives in the prevention and/or treatment of a tau-induced cytotoxicity.

  本发明涉及L-酪氨酸-L-精氨酸的衍生物及其在预防和/或治疗tau诱导的细胞毒性方面的应用。
• COMPOUNDS FOR TREATING PAIN
  申请人：Ribeiro Marta Maria Batista

  公开号：US20110082087A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  The present invention relates to a compound of formula (I) wherein X is hydrogen, R 1 , R 1 C(O), R 1 CO 2 , or a COX2 inhibitor, wherein R 1 is C 1-20 alkyl, aryl, arylalkyl, alkyloxy or arylalkyloxy; wherein Y is OR 2 , NHR 3 N(R 3 ) 2 , or a COX inhibitor; wherein R 2 is hydrogen or C 1-20 alkyl and each R 3 is independently hydrogen or a C 1-4 alkyl; wherein T is OR 4 , NHR 5 N(R 5 ) 2 , or a COX inhibitor wherein R 4 is hydrogen or C 1-20 alkyl and each R 5 is independently hydrogen or a C 1-4 alkyl; wherein Z is hydrogen, R 6 , R 6 C(O), R 6 CO 2 , or a COX2 inhibitor; wherein R 6 is C 1-20 alkyl, aryl, arylalkyl, alkyloxy or arylalkyloxy; with the proviso wherein when X and Z are hydrogen and T is OH, Y is not OH; for use in the prevention and/or treatment of pain wherein said compound is provided for systemic administration.

  本发明涉及一种式（I）的化合物，其中X为氢、R1、R1C（O）、R1CO2或COX2抑制剂，其中R1为C1-20烷基、芳基、芳基烷基、烷氧基或芳基烷氧基；其中Y为OR2、NHR3N（R3）2或COX抑制剂；其中R2为氢或C1-20烷基，每个R3独立地为氢或C1-4烷基；其中T为OR4、NHR5N（R5）2或COX抑制剂，其中R4为氢或C1-20烷基，每个R5独立地为氢或C1-4烷基；其中Z为氢、R6、R6C（O）、R6CO2或COX2抑制剂，其中R6为C1-20烷基、芳基、芳基烷基、烷氧基或芳基烷氧基；但当X和Z为氢且T为OH时，Y不为OH。所述化合物用于预防和/或治疗疼痛，其中所述化合物用于全身给药。
• Nutrient compositions containing peptides
  申请人：CLINTEC NUTRITION COMPANY

  公开号：EP0457314A1

  公开（公告）日：1991-11-21

  Nutrient compositions comprise an aqueous solution of at least one dipeptide with an N-terminal amino acid selected from glutamine, aspargine, tyrosine, tryptophan, and aspargine. The C-terminal amino acid is alanine, glycine, tryptophan, arginine, proline or serine. The nutritional compositions contain from about 0.1 to 25.0 percent by weight of oligopeptides, preferably about 0.5 to 5.0 percent by weight.

  营养组合物包含至少一种二肽的水溶液，其 N 端氨基酸选自谷氨酰胺、天门冬氨酸、酪氨酸、色氨酸和天门冬氨酸。 C 端氨基酸为丙氨酸、甘氨酸、色氨酸、精氨酸、脯氨酸或丝氨酸。营养组合物含有约 0.1%至 25.0%（按重量计）的低聚肽，最好是约 0.5%至 5.0%（按重量计）。
• INHIBITION DE L'ADHESION DE MICRO-ORGANISMES PATHOGENES PAR LE POLYSORBATE 20 DANS LE TRAITEMENT COSMETIQUE DE L'ATOPIE CUTANEE
  申请人：Thorel, Jean-Noël

  公开号：EP3246013A1

  公开（公告）日：2017-11-22

  Composition pour application topique comprenant : - au moins un sucrose stéarate comprenant au moins 70% en poids de monesters de sucrose et d'acide stéarique, le complément étant composé de di, tri, polyesters de sucrose et d'acide stéarique, - et/ou un ester de sorbitan pour utilisation dans le traitement thérapeutique de l'atopie cutanée comme agent inhibant l'adhésion de Staphylococcus aureus sur la peau et la muqueuse nasale humaine.

  用于局部应用的组合物，包括 ： - 至少一种蔗糖硬脂酸酯，按重量计含有至少 70%的蔗糖和硬脂酸单酯， 其余由蔗糖和硬脂酸的二、三、聚酯组成、 - 和/或一种山梨糖醇酯，用于治疗皮肤过敏，可抑制金黄色葡萄球菌粘附在人体皮肤和鼻粘膜上。
• Stabilized alkaline compositions for cleaning microlelectronic substrates
  申请人：——

  公开号：US20020077259A1

  公开（公告）日：2002-06-20

  The invention provides aqueous alkaline compositions useful in the microelectronics industry for stripping or cleaning semiconductor wafer substrates by removing photoresist residues and other unwanted contaminants. The compositions typically contain (a) one or more metal ion-free bases at sufficient amounts to produce a pH of about 10-13 and one or more bath stabilizing agents having at least one pKa in the range of 10-13 to maintain this pH during use; (b) optionally, about 0.01 % to about 5% by weight (expressed as % SiO 2 ) of a water-soluble metal ion-free silicate; (c) optionally, about 0.01% to about 10% by weight of one or more chelating agents; (d) optionally, about 0.01% to about 80% by weight of one or more water-soluble organic co-solvents; and (e) optionally, about 0.01% to about 1% by weight of a water-soluble surfactant.

  本发明提供了在微电子工业中用于剥离或清洗半导体晶片基片的碱性水溶液组合物，可去除光阻残留物和其他不需要的污染物。这些组合物通常含有：(a) 一种或多种不含金属离子的碱，其用量足以产生约 10-13 的 pH 值，以及一种或多种水浴稳定剂，其至少有一种 pKa 在 10-13 范围内，以便在使用过程中保持该 pH 值；(b) 可选地，按重量计约 0.01%至约 5%（以% SiO 2 (c) 可选地，按重量计约 0.01%至约 10%的一种或多种螯合剂； (d) 可选地，按重量计约 0.01%至约 80%的一种或多种水溶性有机助溶剂；以及 (e) 可选地，按重量计约 0.01%至约 1%的水溶性表面活性剂。