N,N-diprop-2-ynylacetamide | 26457-83-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N,N-diprop-2-ynylacetamide
• 英文别名: N,N-Di(prop-2-yn-1-yl)acetamide；N,N-bis(prop-2-ynyl)acetamide
• CAS: 26457-83-0
• 化学式: C₈H₉NO
• 分子量: 135.166
• InChiKey: GUXUBFDAQMBNHI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  67 °C(Press: 2 Torr)
• 密度：
  1.020±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  20.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N-diprop-2-ynylacetamide 在 RhCl(PPh₃)3 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 0.33h， 生成 N-[(2-acetyl-1,3-dihydroisoindol-5-yl)methyl]-N-prop-2-ynylacetamide
  参考文献：
  名称：

  Rhodium catalysed [2+2+2] cycloadditions of acetylenes

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)87433-x

文献信息

• A novel ruthenium-catalysed tandem diyne cycloisomerisation—cross metathesis process
  作者：Roland Stragies、Matthias Schuster、Siegfried Blechert

  DOI：10.1039/a807843b

  日期：——

  Ruthenium-catalysed cycloisomerisation of hepta-1,6-diynes in the presence of functionalised terminal olefins yields five-membered cyclic products with variable unsaturated side chains and is applicable to the synthesis of highly functionalised hetero- and carbocycles.

  钌催化的庚-1,6-二炔环异构化反应在官能化末端烯烃的存在下产生具有可变不饱和侧链的五元环状产物，适用于合成高度官能化的杂环和碳环。
• Synthesis of Pyrrole-3,4-diacetic Acid and Its Derivatives
  作者：Gian Paolo Chiusoli、Mirco Costa、Sara Reverberi

  DOI：10.1055/s-1989-27217

  日期：——

  A simple procedure for the synthesis of pyrrole-3,4-diacetic esters and N-derivatives thereof consists of the oxidative alkoxycarbonylation of dipropargylamine or N-derivatives to give 3,4-bis(alkoxycarbonylmethylene) pyrrolidines which can be easily isomerized to pyrrole-3,4-diacetic esters. Controlled hydrolysis of these esters affords pyrrolidine-3,4-diacetic acid.

  合成吡咯-3,4-二乙酸酯及其N-衍生物的简单程序包括二炔丙胺或N-衍生物的氧化烷氧基羰基化，得到3,4-双(烷氧基羰基亚甲基)吡咯烷，其可以容易地异构化为吡咯- 3,4-二乙酸酯。这些酯的受控水解得到吡咯烷-3,4-二乙酸。
• Novel photoresist monomers, polymers thereof, and photoresist compositions containing the same
  申请人：——

  公开号：US20020012879A1

  公开（公告）日：2002-01-31

  Dipropargyl acetamide derivatives of following Formula 1 which are photoresist monomers, polymers thereof, and photoresist compositions containing the same. The photoresist polymer has high etching resistance, adhesiveness and post-exposure delay stability. As a result, the photoresist composition is suitable to form a fine pattern in a deep ultraviolet region. 1 wherein, n is an integer from 0 to 5.

  以下公式1的双丙炔基乙酰胺衍生物是光阻单体，其聚合物和含有其的光阻组合物。光阻聚合物具有高蚀刻抗性、粘附性和后曝光延迟稳定性。因此，该光阻组合物适用于在深紫外区域形成细微图案。其中，n为0至5的整数。
• Grigg, Ronald; Scott, Ronald; Stevenson, Paul, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1988, p. 1357 - 1364
  作者：Grigg, Ronald、Scott, Ronald、Stevenson, Paul

  DOI：——

  日期：——
• Chiusoli, Gian Paolo; Costa, Mirco; Reverberi, Sara, Gazzetta Chimica Italiana, 1987, vol. 117, # 11, p. 695 - 700
  作者：Chiusoli, Gian Paolo、Costa, Mirco、Reverberi, Sara、Salerno, Giuseppe、Terenghi, Maria Giuliana

  DOI：——

  日期：——