N-(4-bromobenzoyl)-N'-[4-(2-ethylhexyloxy)benzoyl]hydrazine | 237757-83-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: N-(4-bromobenzoyl)-N'-[4-(2-ethylhexyloxy)benzoyl]hydrazine
• 英文别名: N'-(4-bromobenzoyl)-4-(2-ethylhexoxy)benzohydrazide
• CAS: 237757-83-4
• 化学式: C₂₂H₂₇BrN₂O₃
• 分子量: 447.372
• InChiKey: WTBHWGMGUJQNKW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  170.2-173.5 °C
• 沸点：
  616.5±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.263±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.2
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  67.4
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(4-bromobenzoyl)-N'-[4-(2-ethylhexyloxy)benzoyl]hydrazine 在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride 、 sodium hydroxide 、 copper(l) iodide 、 三乙胺 、 三氯氧磷 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲苯 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 2-[4-(2-Ethylhexoxy)phenyl]-5-[4-[2-[5-[5-[2-[4-[5-[4-(2-ethylhexoxy)phenyl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]phenyl]ethynyl]thiophen-2-yl]thiophen-2-yl]ethynyl]phenyl]-1,3,4-oxadiazole
  参考文献：
  名称：

  包含 π-扩展乙炔基-和丁二炔基-2,5-二苯基-1,3,4-恶二唑衍生物的分子线：合成、氧化还原、结构和光电特性

  摘要：

  具有末端乙炔基-(4a,b) 和丁二炔基-(8a,b) 取代基的 2,5-二苯基-1,3,4-恶二唑 (OXD) 衍生物已以高产率合成。2-Methyl-3,5-hexadiyn-2-ol 以前没有被用于合成末端丁二炔。8a 和 8b 的晶体在环境条件下对长期储存非常稳定。8a 的 X 射线晶体结构显示丁二炔部分被芳香部分空间隔离，这解释了高稳定性。两个衍生的pi-共轭分子，Donor-(C[triple bond]C)(n)-OXD (n = 1, 2) 和OXD-(C[triple bond]C)(n)-Donor-(C) [三键]C)(n)-OXD (n = 1) [供体 = 四硫富瓦烯 (TTF)、联噻吩、9-(4,5-二甲基-1,3-二硫醇-2-亚基)芴和三苯胺] , 已使用 Sonogashira 反应合成，并通过 X 射线晶体学、循环伏安法和光学吸收/发射光谱进行表征。OXD

  DOI：

  10.1021/ja0577600
• 作为产物：
  描述：

  4-(1-ethylhexyloxy)benzoic acid 在 吡啶 、 氯化亚砜 作用下， 反应 9.0h， 生成 N-(4-bromobenzoyl)-N'-[4-(2-ethylhexyloxy)benzoyl]hydrazine
  参考文献：
  名称：

  包含 π-扩展乙炔基-和丁二炔基-2,5-二苯基-1,3,4-恶二唑衍生物的分子线：合成、氧化还原、结构和光电特性

  摘要：

  具有末端乙炔基-(4a,b) 和丁二炔基-(8a,b) 取代基的 2,5-二苯基-1,3,4-恶二唑 (OXD) 衍生物已以高产率合成。2-Methyl-3,5-hexadiyn-2-ol 以前没有被用于合成末端丁二炔。8a 和 8b 的晶体在环境条件下对长期储存非常稳定。8a 的 X 射线晶体结构显示丁二炔部分被芳香部分空间隔离，这解释了高稳定性。两个衍生的pi-共轭分子，Donor-(C[triple bond]C)(n)-OXD (n = 1, 2) 和OXD-(C[triple bond]C)(n)-Donor-(C) [三键]C)(n)-OXD (n = 1) [供体 = 四硫富瓦烯 (TTF)、联噻吩、9-(4,5-二甲基-1,3-二硫醇-2-亚基)芴和三苯胺] , 已使用 Sonogashira 反应合成，并通过 X 射线晶体学、循环伏安法和光学吸收/发射光谱进行表征。OXD

  DOI：

  10.1021/ja0577600