triphenylsulfonium iodide | 3744-08-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium iodide
• 英文别名: Triphenyl-sulfonium-iodid；triphenylsulfanium;iodide
• CAS: 3744-08-9
• 化学式: C₁₈H₁₅S*I
• 分子量: 390.288
• InChiKey: CVJLQNNJZBCTLI-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.79
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2930909090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium iodide 在 silver(I) acetate 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 生成 acetate triphenylsulfonium
  参考文献：
  名称：

  PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM

  摘要：

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。

  公开号：

  US20120282548A1
• 作为产物：
  描述：

  triphenyl-sulfonium hydroxide 在 potassium iodide 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 生成 triphenylsulfonium iodide
  参考文献：
  名称：

  Endo, Yasuyuki; Shudo, Koichi; Okamoto, Toshihiko, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1981, vol. 29, # 12, p. 3753 - 3755

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  1-溴辛烷 、 氰化钠 在 triphenylsulfonium iodide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 12.0h， 以99%的产率得到壬基腈
  参考文献：
  名称：

  Triphenylsulfonium Salts as Effective Phase Transfer Catalysts under Alkaline Conditions

  摘要：

  三苯基硫醇盐在强碱条件下，作为有效的相转移催化剂，促进了烷基卤化物的亲核取代反应（例如1）和二氯亚甲基与环己烯（8）的加成反应。

  DOI：

  10.1055/s-1989-27413

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US20110014566A1

  公开（公告）日：2011-01-20

  A salt represented by the formula (I-Pa): wherein X pa represents a single bond or a C1-C4 alkylene group, R pa represents a single bond, a C4-C36 divalent alicyclic hydrocarbon group or a C6-C36 divalent aromatic hydrocarbon group, and one or more methylene groups in the divalent alicyclic hydrocarbon group can be replaced by —O— or —CO—, Y pa represents a polymerizable group, and Z pa+ represents an organic cation.

  由公式(I-Pa)表示的盐，其中Xpa代表单一键或C1-C4亚烷基团，Rpa代表单一键、C4-C36二价脂环烃基团或C6-C36二价芳香烃基团，且脂环烃基团中的一个或多个亚甲基基团可以被—O—或—CO—替换，Ypa代表可聚合团，Zpa+代表有机阳离子。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20090246694A1

  公开（公告）日：2009-10-01

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula ( 1 a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) RO is OH or C 1 -C 20 organoxy, R 1 is a divalent C 1 -C 20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。 ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a) RO为OH或C1-C20有机氧基，R1为二价的C1-C20脂肪族基团或与RO形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100099042A1

  公开（公告）日：2010-04-22

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 2 -C 20 hydrocarbon group having cyclic structure, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为具有环状结构的C2-C20烃基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了一种包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。
• カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2020094037A

  公开（公告）日：2020-06-18

  【課題】良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造できるカルボン酸塩、該塩を含有するカルボン酸発生剤及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩。［Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１２の脂肪族炭化水素基（但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい）；Ｒ２は、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４のフッ素化アルキル基又は炭素数１〜１２の炭化水素基（但し、該炭化水素基に含まれる−ＣＨ2−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい）；ｍ２は、０〜４の整数（但し、ｍ２が２以上のとき、複数のＲ２は互いに同一であっても異なってもよい）；Ｚ１＋は、有機カチオン］【選択図】なし

  提供具有良好CD均一性（CDU）的树脂图案制造所需的羧酸盐，含有该盐的羧酸发生剂和光刻胶组合物。所述羧酸盐由式（I）表示。[R1为C1〜C12的脂肪族烃基（但所述脂肪族烃基中含有的-CH2-可被-O-或-CO-取代）；R2为卤素原子，C1〜C4的氟化烷基或碳数1〜12的烃基（但所述烃基中含有的-CH2-可被-O-或-CO-取代）；m2为0〜4的整数（但当m2大于2时，多个R2可以相同也可以不同）；Z1+为有机阳离子]【选择图】无
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20090274978A1

  公开（公告）日：2009-11-05

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1b) upon exposure to high-energy radiation. R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) R 1 —O—COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1b) R 1 is a monovalent C 20 -C 50 hydrocarbon group of steroid structure which may contain a heteroatom. The bulky steroid structure ensures adequate control of acid diffusion. The photoacid generators are compatible with resins and suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1b）的磺酸。R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a)R1—O—COOCH2CF2SO3−H+(1b)R1是一种单价的C20-C50类固醇结构的烃基，可能含有杂原子。庞大的类固醇结构确保了对酸扩散的充分控制。光酸发生剂与树脂相容，并适用于化学增感抗蚀组合物的使用。