triphenyl-sulfonium hydroxide | 58621-56-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenyl-sulfonium hydroxide
• 英文别名: Triphenylsulfonium hydroxide；triphenylsulfanium;hydroxide
• CAS: 58621-56-0
• 化学式: C₁₈H₁₅S*HO
• 分子量: 280.39
• InChiKey: KOFQUBYAUWJFIT-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.61
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenyl-sulfonium hydroxide 在 potassium iodide 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 生成 triphenylsulfonium iodide
  参考文献：
  名称：

  Endo, Yasuyuki; Shudo, Koichi; Okamoto, Toshihiko, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1981, vol. 29, # 12, p. 3753 - 3755

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  三苯基锍与三氟甲磺酸的盐 在 Amberlite IRA-400 rein (hydroxide form) 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 生成 triphenyl-sulfonium hydroxide
  参考文献：
  名称：

  Endo, Yasuyuki; Shudo, Koichi; Okamoto, Toshihiko, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1981, vol. 29, # 12, p. 3753 - 3755

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  germanium(II) oxide 、 硅酸四乙酯 在 triphenyl-sulfonium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 150.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  有机Organic化合物为结构导向剂的硅酸盐沸石类似物的合成

  摘要：

  使用三丁基ulf，三苯基ulf或三（对甲苯基）s作为结构导向剂，合成了MEL结构类型的微孔晶体二氧化硅沸石和其他三种由锗硅酸盐骨架组成的沸石类似物。如此获得的锗硅酸盐取决于合成条件而具有ISV，ITT或新的沸石结构。借助电荷翻转法，利用X射线粉末衍射数据解决了新型锗硅酸盐的结构。该溶液表明晶体结构属于P 63 / mmc空间群，其单元参数为a = 16.2003Å和c= 21.8579埃。煅烧后，新的锗硅酸盐材料显示出两种类型的可到达的微孔，其直径分别为0.61和0.78 nm。

  DOI：

  10.1002/anie.201506678

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND POLYMERIZABLE COMPOUND
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120237875A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R 1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O— # or —SO 2 —O— ## , wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” indicates a bonding hand bonded to R 1 . -A-R 1 (x)

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括酸敏感基团，酸发生剂用于在辐射照射后生成酸，以及第二聚合物，其中包括氟原子和由通用公式（x）表示的功能基团。第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。R1代表碱性易裂解基团。A代表氧原子，-NR′—，-CO—O—#或-SO2—O—##，其中A代表的氧原子不是直接与芳香环、酰基或亚砜基结合的氧原子，R′代表氢原子或碱性易裂解基团，“#”和“##”表示与R1结合的键合手。-A-R1(x)
• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ArF IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20130034813A1

  公开（公告）日：2013-02-07

  A chemically amplified positive resist composition comprising (A) a sulfonium salt of 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropionic acid, (B) an acid generator, (C) a base resin, and (D) an organic solvent is suited for ArF immersion lithography. The carboxylic acid sulfonium salt is highly hydrophobic and little leached out in immersion water. By virtue of controlled acid diffusion, a pattern profile with high resolution can be constructed.

  一种化学增感正型光刻胶组合物，包括（A）三氟甲基-3,3,3-三氟-2-羟基-2-丙酸磺酸盐，（B）酸发生剂，（C）碱性树脂和（D）有机溶剂，适用于ArF浸没光刻。羧酸磺酸盐具有高度疏水性，在浸没水中几乎不溶出。通过控制酸扩散，可以构建具有高分辨率的图案轮廓。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。